华芯巨数(杭州)微电子有限公司肖中遥获国家专利权
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龙图腾网获悉华芯巨数(杭州)微电子有限公司申请的专利一种屏蔽线布线方法、设备、存储介质和产品获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120850939B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511382273.1，技术领域涉及：G06F30/394；该发明授权一种屏蔽线布线方法、设备、存储介质和产品是由肖中遥设计研发完成，并于2025-09-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种屏蔽线布线方法、设备、存储介质和产品在说明书摘要公布了：本发明涉及集成电路设计技术领域，特别涉及一种屏蔽线布线方法、设备、存储介质和产品。其中，所述屏蔽线布线方法包括：提供设计规则文件和布线参数，布线参数包括目标线组、屏蔽线宽和屏蔽间距；基于目标线组生成布线轮廓；基于屏蔽线宽和屏蔽间距对布线轮廓进行偏移处理，得到屏蔽轮廓；基于屏蔽轮廓生成初始屏蔽线；基于设计规则文件对初始屏蔽线进行设计规则检测和修正处理，并输出目标屏蔽线。通过将布线抽象成几何图形，经过几何处理从而能灵活且高效快速地生成屏蔽线结构。
本发明授权一种屏蔽线布线方法、设备、存储介质和产品在权利要求书中公布了：1.一种屏蔽线布线方法，用于在已完成布线的集成电路的设计版图上生成屏蔽线，其特征在于，包括： 提供设计规则文件和布线参数，所述布线参数包括目标线组、屏蔽线宽和屏蔽间距，所述目标线组的组内的布线间距； 基于所述目标线组生成布线轮廓包括： 提取所述目标线组中每条导线的多边形轮廓； 对所述多边形轮廓执行多边形并集布尔运算，得到所述布线轮廓； 或 提取所述目标线组中每条导线的多边形轮廓，并将所述多边形轮廓外扩二分之一布线间距，得到第一多边形轮廓； 对所述第一多边形轮廓执行多边形并集布尔运算，得到初始布线轮廓； 将所述布线轮廓内缩二分之一布线间距，得到布线轮廓； 基于所述屏蔽线宽和所述屏蔽间距对所述布线轮廓进行偏移处理，得到屏蔽轮廓； 基于所述屏蔽轮廓生成初始屏蔽线； 基于设计规则文件对所述初始屏蔽线进行设计规则检测和修正处理，并输出目标屏蔽线。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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