东莞市竞沃电子科技有限公司许家驹获国家专利权
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龙图腾网获悉东莞市竞沃电子科技有限公司申请的专利一种产气灭弧材料及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120767173B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510907636.2，技术领域涉及：H01H85/42；该发明授权一种产气灭弧材料及其制备方法和应用是由许家驹;陈锦标;陈俊敏;方立雨;林孟平设计研发完成，并于2025-07-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种产气灭弧材料及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种产气灭弧材料及其制备方法和应用，包括H22产气材料和N22产气材料，H22产气材料包括储氢材料和包覆于储氢材料表面的第一高分子膜，N22产气材料包括吸附有N22的分子筛活化粉和包覆于吸附有N22的分子筛活化粉表面的第二高分子膜，第一高分子膜和第二高分子膜的热分解温度各自独立为200~500℃。本发明采用高分子膜分别包覆储氢材料和吸附有N22的分子筛活化粉，使得产气灭弧材料常温下具有良好的稳定性及长期存储性；而在高温电弧触发时同步释放H22和N22，实现高效灭弧；这不仅解决了传统混合气体在安全性、密封要求和成本等方面的难题，还实现了较好的灭弧效果。
本发明授权一种产气灭弧材料及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种产气灭弧材料，其特征在于，包括H2产气材料和N2产气材料，所述H2产气材料包括储氢材料和包覆于所述储氢材料表面的第一高分子膜，所述N2产气材料包括吸附有N2的分子筛活化粉和包覆于所述吸附有N2的分子筛活化粉表面的第二高分子膜，所述第一高分子膜和第二高分子膜的热分解温度各自独立为200~500℃，所述H2产气材料和所述N2产气材料的质量比为5:1~1:20，所述储氢材料与所述第一高分子膜的质量之比为10:1~1:5；所述分子筛活化粉与所述第二高分子膜的质量之比为10:1~1:5。
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