合肥晶合集成电路股份有限公司宋富冉获国家专利权
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龙图腾网获悉合肥晶合集成电路股份有限公司申请的专利晶圆加工装置及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120727624B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511205854.8，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权晶圆加工装置及方法是由宋富冉;黄厚恒;周儒领设计研发完成，并于2025-08-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本晶圆加工装置及方法在说明书摘要公布了：本申请涉及一种晶圆加工装置及方法，晶圆加工装置包括：发射模块、缺陷检测模块和控制模块，其中，所述控制模块分别与所述缺陷检测模块、所述发射模块连接；所述缺陷检测模块用于获取晶圆的边缘图像，以及在根据所述边缘图像确定晶圆边缘存在缺陷的情况下，向所述控制模块发送反馈信息；所述控制模块用于根据所述反馈信息控制所述发射模块向所述晶圆的边缘区域发射等离子体，以剔除所述缺陷。本申请的晶圆加工装置安装在沉积设备、刻蚀设备等设备的机台上，可在机台工作的过程中及时剔除晶圆边缘出现的脱落、剥离等缺陷，避免后续工艺制程中脱落物掉落至晶圆的正常区域，提高了产品良率。
本发明授权晶圆加工装置及方法在权利要求书中公布了：1.一种晶圆加工装置，其特征在于，所述晶圆加工装置安装在刻蚀设备或沉积设备的机台上，所述晶圆加工装置包括：发射模块、缺陷检测模块、偏置模块、晶边定位模块和控制模块，其中，所述控制模块分别与所述缺陷检测模块、所述发射模块、所述偏置模块、所述晶边定位模块连接； 所述缺陷检测模块用于在所述机台工作过程中，实时获取晶圆的边缘图像，以及在根据所述边缘图像确定晶圆边缘存在缺陷的情况下，向所述控制模块发送反馈信息； 所述偏置模块用于调节所述发射模块发射的等离子体的运动轨迹； 所述晶边定位模块用于获取所述晶圆的边缘区域； 所述控制模块用于根据所述反馈信息和所述边缘区域确定所述偏置模块的偏置参数，根据所述偏置参数控制所述偏置模块调节所述等离子体的运动轨迹，以使所述等离子体落至所述边缘区域，以剔除所述缺陷；所述偏置参数至少包括电场强度。
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