无锡邑文微电子科技股份有限公司;江苏邑文微电子科技有限公司邓传磊获国家专利权
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龙图腾网获悉无锡邑文微电子科技股份有限公司;江苏邑文微电子科技有限公司申请的专利一种半导体工艺设备和静电卡盘稳定性的检测方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120048782B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510202377.3，技术领域涉及：H10P72/72；该发明授权一种半导体工艺设备和静电卡盘稳定性的检测方法是由邓传磊;邢浩;杨永博;吴元明;孙文彬设计研发完成，并于2025-02-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种半导体工艺设备和静电卡盘稳定性的检测方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种半导体工艺设备和静电卡盘稳定性的检测方法。半导体工艺设备包括：气体组件、工艺腔室、直流电源以及电容检测模块；工艺腔室内设置有静电卡盘，直流电源与静电卡盘连接，直流电源为静电卡盘供电，静电卡盘吸附放置于静电卡盘上的晶圆；气体组件与静电卡盘的底座连接，气体组件用于在半导体工艺设备在工艺结束后，晶圆与静电卡盘解吸附之后，向工艺腔室输送辅助气体；电容检测模块连接在静电卡盘中的吸附电极和直流电源之间，电容检测模块在晶圆与静电卡盘解吸附之后和吸附之后，分别检测吸附电极与直流电源之间的电容值，并根据吸附前的电容值和吸附后的电容值判断静电卡盘的稳定性。本发明可以对静电卡盘的稳定性进行判定。
本发明授权一种半导体工艺设备和静电卡盘稳定性的检测方法在权利要求书中公布了：1.一种半导体工艺设备，其特征在于，包括：气体组件、工艺腔室、直流电源以及电容检测模块； 所述工艺腔室内设置有静电卡盘，所述直流电源与所述静电卡盘连接，所述直流电源用于为所述静电卡盘供电，所述静电卡盘用于吸附放置于所述静电卡盘上的晶圆； 所述气体组件与所述静电卡盘的底座连接，所述气体组件用于在所述半导体工艺设备在工艺结束后，所述晶圆与所述静电卡盘解吸附之后，向所述工艺腔室输送辅助气体； 所述电容检测模块连接在所述静电卡盘中的吸附电极和所述直流电源之间，所述电容检测模块用于在所述晶圆与所述静电卡盘解吸附之后和吸附之后，分别检测所述吸附电极与所述直流电源之间的电容值，并根据吸附前的电容值和吸附后的电容值判断所述静电卡盘的稳定性。
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