盛美半导体设备(上海)股份有限公司;盛美半导体设备韩国有限公司;清芯科技有限公司王晖获国家专利权
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龙图腾网获悉盛美半导体设备(上海)股份有限公司;盛美半导体设备韩国有限公司;清芯科技有限公司申请的专利基板清洗装置、清洗方法及涂胶显影设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119909952B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410502412.9，技术领域涉及：B08B1/12；该发明授权基板清洗装置、清洗方法及涂胶显影设备是由王晖;吴均;吴岩;徐飞;袁凯杰;李康植设计研发完成，并于2024-04-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板清洗装置、清洗方法及涂胶显影设备在说明书摘要公布了：本申请公开了一种基板清洗装置、清洗方法及涂胶显影设备，该基板清洗装置包括卡盘主体；若干夹持件，呈圆形排布于卡盘主体表面，用于夹持基板，并带动基板自转；背面清洗机构，用于在基板自转期间，对基板靠近卡盘主体的一面进行清洗；卡盘驱动机构，与卡盘主体连接，用于驱动卡盘主体旋转以甩干完成清洗的基板。实现了提升基板背面清洗效果的技术效果及清洗效率。
本发明授权基板清洗装置、清洗方法及涂胶显影设备在权利要求书中公布了：1.一种基板清洗装置，其特征在于，包括： 卡盘主体； 若干夹持件，包括若干第一夹持件和若干第二夹持件，呈圆形排布于所述卡盘主体表面，用于夹持基板，并带动所述基板自转； 背面清洗机构，用于在所述基板自转期间，对所述基板靠近所述卡盘主体的一面进行清洗； 卡盘驱动机构，与所述卡盘主体连接，用于驱动所述卡盘主体旋转以甩干完成清洗的基板； 若干第一径向驱动件，用于同时分别驱动所述若干第一夹持件沿所述卡盘主体的径向方向滑移，且所述若干第一径向驱动件均具有第一启动压力； 若干第二径向驱动件，用于同时分别驱动所述若干第二夹持件沿所述径向方向滑移，且所述若干第二径向驱动件均具有第二启动压力，所述第二启动压力不小于所述第一启动压力； 若干旋转驱动件，用于同时分别驱动所述若干第二夹持件旋转，以带动所述基板自转，且所述若干旋转驱动件均具有第三启动压力，所述第三启动压力大于所述第二启动压力。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人盛美半导体设备(上海)股份有限公司;盛美半导体设备韩国有限公司;清芯科技有限公司，其通讯地址为：201203 上海市浦东新区自由贸易试验区蔡伦路1690号第4幢；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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