京东方科技集团股份有限公司;武汉京东方光电科技有限公司汪洋获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;武汉京东方光电科技有限公司申请的专利掩膜版、隔垫物以及显示基板获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119902410B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311407042.2，技术领域涉及：G03F1/70；该发明授权掩膜版、隔垫物以及显示基板是由汪洋;高玉杰;周晋;喻仁友;高敏;徐文磊;程志伟;殷蝶;尹海斌设计研发完成，并于2023-10-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本掩膜版、隔垫物以及显示基板在说明书摘要公布了：本申请公开了一种掩膜版、隔垫物以及显示基板。掩膜版包括遮光区与透光区；透光区包括主体图形，主体图形呈多边形状；透光区还包括外扩图形，外扩图形设置于主体图形的一角位置处，外扩图形自角位置处向远离主体图形的方向外扩；透光区还包括补偿图形，主体图形的其中一边远离主体图形的一侧的区域设置有补偿图形，补偿图形向边的正投影落入边的两端之间；主体图形的至少一角位置处设置有外扩图形，角对应的两边处均设置有所述补偿图形。本申请的掩膜版通过对隔垫物边角进行曝光补偿，减少了隔垫物边角位置处的钝化，增大了隔垫物的实际支撑面积。在不增加隔垫物尺寸的情况下提升了隔垫物的实际支撑效果。
本发明授权掩膜版、隔垫物以及显示基板在权利要求书中公布了：1.一种掩膜版，用于制作显示基板上的隔垫物，其特征在于，包括： 遮光区； 透光区，所述透光区包括： 主体图形，所述主体图形呈多边形状； 外扩图形，所述外扩图形设置于所述主体图形的一角位置处，所述外扩图形自所述角位置处向远离所述主体图形的方向外扩； 补偿图形，所述主体图形的其中一边远离所述主体图形的一侧的区域设置有所述补偿图形，所述补偿图形向所述边的正投影落入所述边的两端之间； 所述主体图形的至少一角位置处设置有所述外扩图形，所述角位置对应的两边处均设置有所述补偿图形。
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