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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司申请的专利显示基板及其制作方法、显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119256641B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202280002077.5，技术领域涉及：H10K59/12；该发明授权显示基板及其制作方法、显示装置是由惠燕;石佺;李军;李海博;周瑞;李坡;陶欢;陈颖冰;张楠;刘肖楠;张磊;卢焱锴设计研发完成，并于2022-06-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本显示基板及其制作方法、显示装置在说明书摘要公布了：一种显示基板及其制作方法、以及显示装置。显示基板包括衬底基板、多个子像素，像素限定层以及平坦化层，多个子像素中的每个子像素包括发光元件；像素限定层包括主体部及多个开口；平坦化层设置在衬底基板和像素限定层之间，主体部包括第一主体子部和第二主体子部，第二主体子部相对于第一主体子部突出，以形成隔断结构，多个膜层中的至少一层在主体部的隔断结构处断开，位于开口中的第一电极的远离衬底基板一侧的发光功能层在衬底基板上的正投影与位于主体部的远离衬底基板一侧的发光功能层在衬底基板上的正投影至少部分交叠。隔断结构可将发光功能层中的至少一个膜层断开，有利于减轻相邻子像素之间发生串扰。

本发明授权显示基板及其制作方法、显示装置在权利要求书中公布了：1.一种显示基板，包括： 衬底基板； 多个子像素，所述多个子像素中的每个子像素包括发光元件，所述发光元件包括发光功能层以及沿垂直于所述衬底基板的方向位于所述发光功能层两侧的第一电极和第二电极，所述第一电极位于所述发光功能层与所述衬底基板之间，所述发光功能层包括多个膜层； 像素限定层，包括主体部及多个开口，所述开口由所述主体部所限定，所述开口暴露所述第一电极的至少一部分；以及 平坦化层，设置在所述衬底基板和所述像素限定层之间， 其中，所述主体部包括第一主体子部和第二主体子部，所述第一主体子部位于所述第二主体子部的靠近所述衬底基板的一侧， 所述第二主体子部相对于所述第一主体子部突出，以形成隔断结构，所述多个膜层中的至少一层在所述主体部的隔断结构处断开， 位于所述开口中的第一电极的远离所述衬底基板一侧的所述发光功能层在所述衬底基板上的正投影与位于所述主体部的远离所述衬底基板一侧的所述发光功能层在所述衬底基板上的正投影至少部分交叠， 沿相邻子像素的排列方向，所述第一主体子部的最大尺寸为所述第二主体子部的最大尺寸的0.4-0.8倍，并且 沿垂直于所述衬底基板的方向，所述第一主体子部的最大尺寸为所述第二主体子部的最大尺寸的1-1.8倍。

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