京东方科技集团股份有限公司;成都京东方显示科技有限公司王尖获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;成都京东方显示科技有限公司申请的专利阵列基板及其制作方法、掩膜版、显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118103771B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202280003318.8，技术领域涉及：G03F1/38；该发明授权阵列基板及其制作方法、掩膜版、显示装置是由王尖;唐辉;李梁梁;荣孟欣;宋子科;蔡双双设计研发完成，并于2022-09-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本阵列基板及其制作方法、掩膜版、显示装置在说明书摘要公布了：本公开实施例提供了一种掩膜版、阵列基板及其制作方法、显示装置。阵列基板，包括衬底，以及设置在所述衬底一侧的过孔，其中：所述过孔包括第一结构和环绕所述第一结构的第二结构，所述第一结构和所述第二结构的透光率不同；所述第一结构在所述衬底上的正投影大致为矩形，且具有多个直边；所述第二结构在所述衬底上的正投影大致为八边形，所述第二结构包括多个第一子结构和多个第二子结构，所述第一子结构在所述衬底上的正投影为条状，所述第一子结构与所述第一结构的直边一一对应地平行设置，所述第二子结构在所述衬底上的正投影为瓦片状；所述第二子结构位于相邻两个第一子结构之间，且连接相邻的第一子结构。
本发明授权阵列基板及其制作方法、掩膜版、显示装置在权利要求书中公布了：1.一种掩膜版，用于制作阵列基板中的过孔；其中，所述掩膜版包括： 全透光区，所述全透光区具有多个侧边； 图形区，所述图形区环绕所述全透光区设置，且包括彼此间隔的多个部分透光区以及多个角落区，每个所述部分透光区与所述全透光区的一个侧边相对设置，所述部分透光区的透光率小于所述全透光区的透光率，所述角落区位于所述全透光区的角部位置，所述角落区为遮光区域； 所述部分透光区包括多个透光狭缝和多个所述遮光狭缝，对于同一个所述部分透光区中的任意两个所述透光狭缝，远离所述全透光区的透光狭缝的长度大于靠近所述全透光区的透光狭缝的长度。
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