东华隆株式会社;福吉米株式会社盐尻泰广获国家专利权
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龙图腾网获悉东华隆株式会社;福吉米株式会社申请的专利喷镀材料、喷镀覆膜、喷镀覆膜的形成方法、等离子体蚀刻装置用部件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116547784B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180083075.9，技术领域涉及：C23C4/04；该发明授权喷镀材料、喷镀覆膜、喷镀覆膜的形成方法、等离子体蚀刻装置用部件是由盐尻泰广;水津竜夫;田口研良;水野宏昭;益田敬也设计研发完成，并于2021-11-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本喷镀材料、喷镀覆膜、喷镀覆膜的形成方法、等离子体蚀刻装置用部件在说明书摘要公布了：提供一种耐等离子体侵蚀性优异、能够长期保护等离子体蚀刻装置的构件不受等离子体侵蚀的影响、有助于设备的稳定生产、构件的长寿命化的喷镀覆膜。作为本发明的一个方式的喷镀材料由复合化物形成，所述复合化物以40mol％以上且80mol％以下的比例包含稀土氟化物，以10mol％以上且40mol％以下的比例包含氟化镁，以0mol％以上且40mol％以下的比例包含氟化钙。
本发明授权喷镀材料、喷镀覆膜、喷镀覆膜的形成方法、等离子体蚀刻装置用部件在权利要求书中公布了：1.一种喷镀材料，其由复合化物形成，所述复合化物以40mol％以上且80mol％以下的比例包含稀土氟化物，以10mol％以上且40mol％以下的比例包含氟化镁，并且包含氟化钙作为必须成分，所述氟化钙的含有比例为40mol％以下，所述复合化物是一次颗粒的平均粒径为10μm以下的氟化钇、一次颗粒的平均粒径为10μm以下的氟化镁和一次颗粒的平均粒径为10μm以下的氟化钙的造粒粉进行烧结而得到的造粒烧结粉，该造粒粉的平均粒径为5μm以上且40μm以下。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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