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龙图腾网获悉中国电子科技集团公司第五十五研究所申请的专利一种自动转移印刷过程中的印章高度补偿方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116330869B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310188050.6，技术领域涉及：B41K3/04；该发明授权一种自动转移印刷过程中的印章高度补偿方法是由王宇轩;孔月婵;陈堂胜设计研发完成，并于2023-03-02向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种自动转移印刷过程中的印章高度补偿方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种自动转移印刷过程中的印章高度补偿方法，该方法通过使用激光测距装置和多轴运动位移台，依次测量出待转移和待印刷衬底表面不同位置的高度数值并依次记录形成一个相对高度矩阵，再通过印章标定其中一个位置的垂直高度位移量，结合已获得的高度矩阵，从而得到印章在衬底范围内不同位置上转移和印刷物体所需准确高度位移量；本发明主要用于提升自动转移印刷工作的可靠性，解决由于大面积待转移和待印刷衬底范围内高度起伏引起的印章拾取与放置时的失效问题。

本发明授权一种自动转移印刷过程中的印章高度补偿方法在权利要求书中公布了：1.一种自动转移印刷过程中的印章高度补偿方法，其特征在于，包括自动转移印刷设备的装置设计和实施印章高度补偿方法的步骤设计； 所述自动转移印刷设备的装置设计包括： 能够水平Y方向位移的第一工作台YS和能够水平X方向位移的第二工作台XS，所述第一工作台YS上设置的印章固定平台ST、垂直方向的第一运动台Z1、与所述印章固定平台ST相对且与所述印章固定平台ST固定连接的激光反射式测距传感器LS、与所述印章固定平台ST和所述第一运动台Z1垂直共轴的图像观察系统VS、与所述第一运动台Z1独立进行Z向共轴运动的第二运动台Z2，所述第二工作台XS安装在支座SG上，所述第二工作台XS上设置有待转移衬底固定平台TS和待印刷衬底固定平台PS； 第一方形衬底T1构成为待转移衬底，第二方形衬底P1构成为待印刷衬底； 所述实施印章高度补偿方法的步骤设计包括： 步骤1：所述待转移衬底固定平台TS和所述待印刷衬底固定平台PS上分别放置第一方形衬底T1和第二方形衬底P1，并将固化在透明玻璃表面的高分子印章STAMP倒置贴附在所述印章固定平台ST上； 步骤2：通过所述第一工作台YS和所述第二工作台XS的位移操作，将所述图像观察系统VS移至所述第一方形衬底T1的正上方； 步骤3：根据所述激光反射式测距传感器LS与所述印章固定平台ST的水平固定偏差，将所述激光反射式测距传感器LS移至所述第一方形衬底T1的正上方； 步骤4：根据转移过程中等距步进值，将所述第一方形衬底T1分割为若干等步进区域，并将所述激光反射式测距传感器LS移至第一个区域位置； 步骤5：按照转移过程的步进值，使用所述激光反射式测距传感器LS依次测量所述激光反射式测距传感器LS的探头至第一方形衬底T1相邻划分区域间的高度值并记录； 步骤6：再将所述印章固定平台ST移至第一方形衬底T1的第一个区域位置，记录下此时激光反射式测距传感器LS的高度数值，缓慢降低印章直至所述印章与待转移衬底接触，再次记录所述激光反射式测距传感器LS高度值并将所述印章恢复至初始高度位置； 步骤7：通过所述第一工作台YS和所述第二工作台XS的位移操作，将所述图像观察系统VS移动在所述第二方形衬底P1的正上方； 步骤8：根据所述激光反射式测距传感器LS与所述印章固定平台ST的水平固定偏差，将所述激光反射式测距传感器LS移至所述第二方形衬底P1的正上方； 步骤9：根据印刷过程中等距步进值，将所述第二方形衬底P1分割为若干等步进区域，并将所述激光反射式测距传感器LS移至第二方形衬底P1的第一个区域位置； 步骤10：按照印刷过程的步进值，使用所述激光反射式测距传感器LS依次测量所述激光反射式测距传感器LS的探头至第二方形衬底P1相邻划分区域间的高度值并记录； 步骤11：再将所述印章固定平台ST移至第二方形衬底P1的第一个区域位置，记录下此时传感器LS的高度数值，缓慢降低所述印章直至所述印章与第二方形衬底P1接触，再次记录所述激光反射式测距传感器LS高度值并将所述印章恢复至初始高度位置； 步骤12：通过计算得到待转移和待印刷衬底上各区域的高度补偿值，当印章在第一方形衬底T1的各区域上进行拾取所需结构时，印章固定平台ST需下降的精确高度基于对应区域的高度补偿值；当印章在第二方形衬底P1的各区域上进行放置所需结构时，印章固定平台ST需下降的精确高度基于对应区域的高度补偿值；当印章移动到第一方形衬底T1或第二方形衬底P1的对应区域时，按照对应区域的精确高度控制第一运动台Z1拾取或放置所需结构。

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