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龙图腾网获悉上海晶盟硅材料有限公司申请的专利HF-HCL混合药液的浓度监控方法、装置、设备以及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116313927B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310392725.9，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权HF-HCL混合药液的浓度监控方法、装置、设备以及存储介质是由王康锋;张晓艳;吴勇;顾广安设计研发完成，并于2023-04-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本HF-HCL混合药液的浓度监控方法、装置、设备以及存储介质在说明书摘要公布了：本公开的实施例提供了一种HF‑HCL混合药液的浓度监控方法、装置、设备以及存储介质，应用于半导体技术领域。该方法包括：获取晶圆进入HF‑HCL混合药液之前的第一膜厚度，以及晶圆离开HF‑HCL混合药液之后的第二膜厚度；根据晶圆的第一膜厚度和第二膜厚度，计算晶圆的膜厚度减少值；根据晶圆的膜厚度减少值，确定HF‑HCL混合药液的浓度是否发生异常。以此方式，可以根据晶圆被HF‑HCL混合药液清洗前后的膜厚度计算膜厚度减少值，并根据膜厚度减少值实现对HF‑HCL混合药液的浓度的有效监控，进而及时地发现HF‑HCL混合药液的浓度是否发生异常，以便在浓度异常时快速做出相应处理，大大降低晶圆的报废风险，有利于提高晶圆清洗效果。

本发明授权HF-HCL混合药液的浓度监控方法、装置、设备以及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种HF-HCL混合药液的浓度监控方法，其特征在于，所述方法包括： 获取晶圆进入HF-HCL混合药液之前的第一膜厚度，以及所述晶圆离开所述HF-HCL混合药液之后的第二膜厚度； 根据所述晶圆的第一膜厚度和第二膜厚度，计算所述晶圆的膜厚度减少值； 根据所述晶圆的膜厚度减少值，确定所述HF-HCL混合药液的浓度是否发生异常； 所述获取晶圆进入HF-HCL混合药液之前的第一膜厚度，以及所述晶圆离开所述HF-HCL混合药液之后的第二膜厚度，包括： 在所述晶圆进入所述HF-HCL混合药液之前，沿着预设拍摄路径对所述晶圆进行拍摄，得到多幅晶圆图像，根据各晶圆图像，确定各晶圆图像对应的拍摄区域的膜厚度，并计算各拍摄区域的膜厚度的平均值，将其作为所述第一膜厚度； 在所述晶圆离开所述HF-HCL混合药液之后，沿着所述预设拍摄路径对所述晶圆进行拍摄，得到多幅晶圆图像，根据各晶圆图像，确定各晶圆图像对应的拍摄区域的膜厚度，并计算各拍摄区域的膜厚度的平均值，将其作为所述第二膜厚度； 所述根据各晶圆图像，确定各晶圆图像对应的拍摄区域的膜厚度，包括： 将所述晶圆图像划分为多个相同尺寸的子晶圆图像； 根据各子晶圆图像，确定各子晶圆图像对应的膜厚度； 根据各子晶圆图像对应的膜厚度对各子晶圆图像进行聚类，得到多个子晶圆图像集合； 根据各子晶圆图像集合中膜厚度最大的子晶圆图像的中心点，生成闭合曲线；计算所述闭合曲线内的子晶圆图像对应的膜厚度的平均值，并将其作为所述晶圆图像对应的拍摄区域的膜厚度；或者，根据各子晶圆图像集合中膜厚度最小的子晶圆图像的中心点，生成闭合曲线，计算闭合曲线内的子晶圆图像对应的膜厚度的平均值，并将其作为所述晶圆图像对应的拍摄区域的膜厚度。

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