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龙图腾网获悉中国科学院上海技术物理研究所申请的专利一种高透过率的紫外滤光片及实现方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116184552B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310027668.4，技术领域涉及：G02B5/28；该发明授权一种高透过率的紫外滤光片及实现方法是由马冲;陈刚;刘定权;张荣君;周晟;蔡清元;李耀鹏设计研发完成，并于2023-01-09向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种高透过率的紫外滤光片及实现方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种高透过率的紫外滤光片及实现方法。滤光片膜系设计为光控规整膜层和双腔法布里‑珀珞结构非规整膜层相结合，薄膜厚度监控采用光控和时间控相结合。通过对膜系结构的敏感性分析以及对敏感间隔膜层的准确控制，可以实现紫外滤光片测试光谱和设计光谱的一致以及紫外滤光片的高透过率。本发明的紫外滤光片膜系结构适用性强，工艺实施性好，适用于不能直接光学监控的紫外波段滤光片研制。

本发明授权一种高透过率的紫外滤光片及实现方法在权利要求书中公布了：1.一种实现高透过率的紫外滤光片的方法，该高透过率的紫外滤光片由基片及位于基片一侧的带通膜系组成，其特征在于： 所述的膜系为光控规整膜层和双腔法布里-珀珞结构非规整膜层相结合，膜系结构为： 基底1H1Lm0.5H0.5Ln0.5HA0.5H0.5L0.5Hn0.5L0.5H0.5Ln0.5HB0.5H0.5L0.5Hn0.2L空气 式中:H表示光学厚度为λ04的HfO2膜层，L表示光学厚度为λ04的SiO2膜层，H、L前的数字为该膜层的厚度比例系数，H和L的光学厚度位于可见光波段，0.5H和0.5L的光学厚度位于紫外波段，λ0为中心波长，该中心波长为200-400nm，m为规整膜层周期数，n为反射膜层周期数；A和B分别为两个间隔膜层，间隔膜层A光学厚度为2L，间隔膜层B光学厚度为21+xL，x为膜层修正因子； 所述的膜层采用离子束溅射沉积，所述的膜系结构中HL...规整膜层采用白光源进行直接光学监控，所述的膜系结构中非规整膜层采用时间监控方法； 所述的控制间隔膜层A和间隔膜层B膜厚差的实现方法步骤如下： 1给定x从-1%，-0.5%，0,0.5%和1%的变化，拟合所述的膜系结构的光谱； 2结合实际制备出的紫外滤光片的测试结果，反演间隔膜层A和间隔膜层B的厚度差值，调整修正因子x的数值，将间隔膜层A和间隔膜层B的物理厚度差控制在0.5%以内。

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