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龙图腾网获悉上海微电子装备(集团)股份有限公司申请的专利缺陷自动检测装置及用于缺陷检测的调焦方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116183607B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111437348.3，技术领域涉及：G01N21/88；该发明授权缺陷自动检测装置及用于缺陷检测的调焦方法是由陈志刚;魏礼俊;周许超;张记晨设计研发完成，并于2021-11-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本缺陷自动检测装置及用于缺陷检测的调焦方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种用于缺陷检测的调焦方法，包括：将待测基底置于工件台上并使所述待测基底的中心点处于检测物镜的最佳焦面；垂向测量传感器获取多个采样点的垂向高度；对所述待测基底的所有采样点进行多项式拟合，输出用于拟合基底面型的测量的所有采样点数据全部有效；根据输出的有效采样点数据拟合基底面型，实时调节检测光斑所在基底区域的垂向高度参数，或者实时调节X方向倾斜值、Y方向倾斜值以及垂向高度参数，以使所述待测基底整体置于所述检测物镜的最佳焦面。实现对多层高阶复杂基底面型的垂向控制，提高垂向控制精度。

本发明授权缺陷自动检测装置及用于缺陷检测的调焦方法在权利要求书中公布了：1.一种用于缺陷检测的调焦方法，其特征在于，包括： 将待测基底置于距检测物镜预定距离的平面； 所述待测基底沿着X方向或Y方向以预定距离运动，垂向测量传感器对所述待测基底的整个基底面型进行测量，获取多个采样点的垂向高度； 对所述待测基底的所有采样点进行多项式拟合，计算采样点的垂向高度与拟合的基底面型相同位置处垂向高度的拟合残差并判断拟合残差是否小于预设阈值；若拟合残差小于等于预设阈值，则判定采样点的测量数据有效；若拟合残差大于预设阈值，则进行滤波处理且迭代判断直至用于拟合基底面型的测量的所有采样点数据全部有效，所述滤波处理包括若拟合残差大于滤波预设阈值，则判定采样点无效，并删除所述采样点数据； 根据输出的有效采样点数据拟合基底面型，通过测量模型计算输出所述基底面型的X方向倾斜值、Y方向倾斜值及拟合残差的波形分布图，并根据拟合结果统计垂向高度参数，实时调节检测光斑所在基底区域的垂向高度参数，或者实时调节X方向倾斜值，或者Y方向倾斜值以及垂向高度参数，以使所述待测基底的实时被测基底区域置于所述检测物镜的最佳焦面。

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