力晶积成电子制造股份有限公司黄振明获国家专利权
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龙图腾网获悉力晶积成电子制造股份有限公司申请的专利指纹感测模块的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116111001B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111411691.0，技术领域涉及：H10F71/00；该发明授权指纹感测模块的制造方法是由黄振明设计研发完成，并于2021-11-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本指纹感测模块的制造方法在说明书摘要公布了：本发明公开一种指纹感测模块的制造方法，该制造方法包括：在基底上依序形成平坦层和光致抗蚀剂材料层，其中基底包括包含感光阵列的像素区以及围绕像素区的周边区；移除光致抗蚀剂材料层于像素区上的部分，以形成暴露出平坦层的光致抗蚀剂图案；移除平坦层于像素区上的部分，以形成暴露出基底的图案化平坦层；在光致抗蚀剂图案上和基底的像素区上形成红外线截止层；移除光致抗蚀剂图案及光致抗蚀剂图案上的红外线截止层，以在基底的像素区上形成红外线截止图案；在红外线截止图案上以及图案化平坦层上形成遮光层；以及图案化遮光层，以在红外线截止图案上形成包括针孔阵列的准直结构层，并在图案化平坦层上形成标记图案。
本发明授权指纹感测模块的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种指纹感测模块的制造方法，包括： 在基底上依序形成平坦层和光致抗蚀剂材料层，所述基底包括包含感光阵列的像素区以及围绕所述像素区的周边区； 移除所述光致抗蚀剂材料层于所述像素区上的部分，以形成暴露出所述平坦层的光致抗蚀剂图案； 移除所述平坦层于所述像素区上的部分，以形成暴露出所述基底的图案化平坦层； 在所述光致抗蚀剂图案上和所述基底的所述像素区上形成红外线截止层； 移除所述光致抗蚀剂图案以及所述红外线截止层于所述光致抗蚀剂图案上的部分，以在所述基底的所述像素区上形成红外线截止图案； 在所述红外线截止图案上以及所述图案化平坦层上形成遮光层；以及 图案化所述遮光层，以在所述红外线截止图案上形成包括针孔阵列的准直结构层，并在所述图案化平坦层上形成标记图案。
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