中国科学院金属研究所邰凯平获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学院金属研究所申请的专利一种温度、应变复合传感器及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115717910B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211493754.6,技术领域涉及:G01D21/02;该发明授权一种温度、应变复合传感器及其制备方法是由邰凯平;喻海龙;于治设计研发完成,并于2022-11-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种温度、应变复合传感器及其制备方法在说明书摘要公布了:本发明属于多功能智能材料领域,具体涉及一种温度、应变复合传感器及其制备方法。该复合传感器包括:柔性基底层、功能材料层和金属电极,功能材料层采用磁控溅射工艺沉积在柔性基底层上,金属电极沉积在柔性基底层两端与功能材料层电连接;所述柔性基底层为聚酰亚胺薄膜,所述功能材料层为高度000l织构N型碲化铋薄膜。本发明所制备的复合传感器对温度和应变都极其敏感,并且制备方法简单易行,该复合传感器可用于温度应变双参数传感,有较强的应用价值。
本发明授权一种温度、应变复合传感器及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种温度、应变复合传感器的制备方法,其特征在于,所述传感器包括:柔性基底层、功能材料层和金属电极,功能材料层采用磁控溅射工艺沉积在柔性基底层上,金属电极沉积在柔性基底层两端与功能材料层电连接;所述柔性基底层为聚酰亚胺薄膜,所述功能材料层为高度[000l]织构N型碲化铋薄膜;所述高度[000l]织构N型碲化铋薄膜厚度为300nm-2000nm;高度[000l]织构N型碲化铋薄膜具有压阻效应,其应变因子是负值,即碲化铋薄膜在产生拉应变的条件下,电阻减小;在产生压应变的条件下,电阻增大;并且随着压应变或者拉应变的增大,电阻增大或减小的幅度变大;且碲化铋薄膜受拉或受压时电阻变化的规律是可逆的;所述金属电极为Au、Ag或Pt高导电金属电极;所述聚酰亚胺薄膜厚度为25um-175um;在对碲化铋薄膜同时施加温度和应变激励的情况下,通过热电效应探测温度,通过电阻变化探测应变,实现温度和应变的双功能检测,且两者产生的信号不同,以实现信号解耦; 所述传感器的制备方法的具体步骤包括: 步骤1:采用飞秒激光切割技术,切割高精度磁控溅射样品盘及物理掩膜板; 步骤2:取聚酰亚胺薄膜,依次用丙酮和无水乙醇超声清洗30min,用镊子捞出后再用无尘纸吸干无水乙醇备用; 步骤3:利用磁控溅射镀膜技术,利用掩膜镀膜技术,在步骤2处理后的聚酰亚胺薄膜上沉积碲化铋薄膜; 步骤4:将步骤3中沉积了碲化铋薄膜的聚酰亚胺薄膜取出,更换掩膜板,在聚酰亚胺薄膜两端再沉积一层金属电极,最后通过银胶粘接金属电极与导线以引出信号线; 物理掩膜板分为碲化铋掩膜板和电极掩膜板; 步骤3中磁控溅射镀膜参数为:背真空度为1×10-7-2×10-7torr,通入Ar气压力为10-20mT,样品盘转速为10-20rmin,镀膜温度为300-400℃。
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