武汉华星光电技术有限公司吴志林获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉华星光电技术有限公司申请的专利显示面板及其制作方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115513287B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211116125.1，技术领域涉及：H10D64/27；该发明授权显示面板及其制作方法是由吴志林;马涛;宋德伟;艾飞;崔珠峰设计研发完成，并于2022-09-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本显示面板及其制作方法在说明书摘要公布了：本申请提供一种显示面板及其制作方法，通过在栅极层中设置一位于栅极子层和栅极绝缘层之间的保护层，保护层可以保护栅极绝缘层免受湿刻工艺的影响，且有利于在干刻工艺中减少栅极绝缘层暴露于刻蚀气体氛围的时间，从而减少栅极绝缘层的厚度损失量，本申请实施例中，第二栅极绝缘部的任一位置处厚度均大于第一栅极绝缘部的厚度56。
本发明授权显示面板及其制作方法在权利要求书中公布了：1.一种显示面板，其特征在于，包括阵列基板，所述阵列基板包括： 衬底； 有源层，位于所述衬底上； 栅极绝缘层，位于所述有源层上，所述栅极绝缘层包括第一栅极绝缘部和与所述第一栅极绝缘部邻接的第二栅极绝缘部； 栅极层，位于所述栅极绝缘层上，所述栅极层包括栅极子层和保护层，所述保护层位于所述栅极子层和所述栅极绝缘层之间； 其中，所述第一栅极绝缘部与所述栅极层对应设置，所述第二栅极绝缘部任一位置的厚度大于所述第一栅极绝缘部厚度的56； 所述有源层包括有源部、以及与所述有源部邻接的掺杂部，所述栅极层在所述衬底上的投影覆盖所述有源部在所述衬底上的投影； 所述保护层的厚度小于所述栅极子层的厚度； 所述栅极子层在所述衬底的投影落入所述保护层在所述衬底的投影内。
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