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龙图腾网获悉沈阳爱科斯科技有限公司申请的专利渗镀一体镀膜装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115261801B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210718582.1，技术领域涉及：C23C14/32；该发明授权渗镀一体镀膜装置是由王君设计研发完成，并于2022-06-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本渗镀一体镀膜装置在说明书摘要公布了：本申请涉及真空镀膜技术领域，尤其是涉及一种渗镀一体镀膜装置。该渗镀一体镀膜装置包括渗镀模组，渗镀模组包括镀膜室、镀膜弧源、阳极构件、第一引弧机构和离子枪；镀膜弧源、第一引弧机构和离子枪均与镀膜室相连接，镀膜室的内部设置有用于放置工件的容置工位，阳极构件设置于容置工位的背离于离子枪的侧部，工作空间用于通入渗氮用氮气或者镀膜反应气体，第一引弧机构对应离子枪设置，以使离子枪朝向阳极构件出射热电子束。该渗镀一体镀膜装置能够对工件进行渗氮和镀膜处理，使得氮离子渗透至工件的内部，以达到增大工件硬度的目的，处理得到的工件的膜层性能以及整体硬度性能均大幅提高。

本发明授权渗镀一体镀膜装置在权利要求书中公布了：1.一种渗镀一体镀膜装置，其特征在于，包括： 渗镀模组，所述渗镀模组包括镀膜室、镀膜弧源、阳极构件、第一引弧机构和离子枪； 所述镀膜弧源、所述第一引弧机构和所述离子枪均与所述镀膜室相连接，所述镀膜室的内部形成工作空间，所述工作空间包括用于放置工件的容置工位，所述阳极构件设置于所述容置工位的背离于所述离子枪的侧部，所述工作空间用于通入渗氮用氮气或者镀膜反应气体，所述第一引弧机构对应所述离子枪设置，以使所述离子枪朝向所述阳极构件出射热电子束； 所述渗镀模组还包括刻蚀弧源，所述刻蚀弧源与所述镀膜室相连接，所述刻蚀弧源和所述阳极构件相对应地设置于所述容置工位的同一侧； 所述镀膜室包括顶板、底板和侧部筒体，侧部筒体包括呈八边形连接的八个侧板，顶板和底部分别封盖于侧部筒体的顶端开口和底端开口； 所述镀膜弧源和所述刻蚀弧源均还包括弧靶、磁场发生机构和绝缘连接组件； 所述绝缘连接组件与所述镀膜室相连接，所述弧靶连接于所述绝缘连接组件的位于所述工作空间内的部分； 所述磁场发生机构可拆卸地连接于所述绝缘连接组件的位于所述镀膜室外侧的部分，所述磁场发生机构包括多个磁场发生组件，多个所述磁场发生组件分别产生不同分布规律的磁场，以使所述磁场发生机构能够产生作用于所述弧靶的复合磁场； 抽真空模组，所述抽真空模组与所述镀膜室相连接，以对所述镀膜室进行抽真空处理。

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