富士胶片电子材料美国有限公司高桥和敬获国家专利权
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龙图腾网获悉富士胶片电子材料美国有限公司申请的专利蚀刻组合物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114651317B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080077761.0，技术领域涉及：C09K13/06；该发明授权蚀刻组合物是由高桥和敬;高桥智威;W·A·沃伊特恰克设计研发完成，并于2020-09-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本蚀刻组合物在说明书摘要公布了：本公开涉及一种蚀刻组合物，其包含1至少一种氧化剂；2至少一种螯合剂；3至少一种有机溶剂；4至少一种胺化合物；及5水。
本发明授权蚀刻组合物在权利要求书中公布了：1.一种蚀刻组合物，包含： 1至少一种氧化剂，其量为所述组合物的0.1重量%至30重量%； 2至少一种螯合剂，其量为所述组合物的0.01重量%至1重量%,所述至少一种螯合剂包含多氨基多羧酸； 3至少一种有机溶剂，其量为所述组合物的1重量%至30重量%； 4至少一种胺化合物，其包含乙二胺、1,2-二氨基丙烷、1,3-二氨基丙烷或四甲基氟化铵，所述至少一种胺化合物包含1至6个碳原子且量为所述组合物的1重量%至5重量%；及 5水；以及 6至少一种酸，其包含无机酸或磺酸，其中，所述至少一种酸的量为所述组合物的0.1重量%至5重量%； 其中，所述组合物具有6.5至9.5的pH。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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