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龙图腾网获悉中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司申请的专利一种清洗设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114628310B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011435464.7，技术领域涉及：H10P72/76；该发明授权一种清洗设备是由崔相龙;胡艳鹏;李琳设计研发完成，并于2020-12-10向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种清洗设备在说明书摘要公布了：本发明提供了一种清洗设备，该清洗设备包括一支撑结构、以及设置在支撑结构上且用于盛放清洗剂的清洗腔。清洗腔的底部设置有支撑台，支撑台上具有用于限位第一尺寸的晶圆匣的第一限位结构、用于限位第二尺寸的晶圆匣的第二限位结构；第一尺寸大于第二尺寸，第一限位结构环绕在第二限位结构的四周。通过在支撑台上设置两个限位结构，且第一限位结构环绕在第二限位结构的四周，使具有一个工位的清洗腔既能够放置第一尺寸的晶圆匣，又能够放置第二尺寸的晶圆匣，使该清洗设备能够兼容不同尺寸的晶圆匣，以对不同尺寸晶圆匣中的晶圆进行清洗，提高清洗设备对不同尺寸的晶圆匣进行清洗的兼容性能，无需设置两套分别针对不同尺寸的晶圆匣的清洗设备。

本发明授权一种清洗设备在权利要求书中公布了：1.一种清洗设备，其特征在于，包括： 支撑结构； 设置在所述支撑结构上且用于盛放清洗剂的清洗腔； 设置在所述清洗腔底部的支撑台； 其中，所述支撑台上具有用于限位第一尺寸的晶圆匣的第一限位结构、以及用于限位第二尺寸的晶圆匣的第二限位结构；所述第一尺寸大于所述第二尺寸，且所述第一限位结构环绕在所述第二限位结构的四周； 所述清洗设备还包括位于所述清洗腔一侧且装载及卸载共用的转运台；所述转运台包括设置在所述支撑结构上且具有多个支撑单元的载台，其中，每个支撑单元用于支撑一个所述第一尺寸的晶圆匣或所述第二尺寸的晶圆匣； 所述载台包括设置在所述支撑结构上且间隔分布的两个支撑板；且所述两个支撑板的间距小于所述第二尺寸的晶圆匣的底部的两个支撑条的间距； 每个支撑单元包括：设置在所述两个支撑板上的四个L形的第一凸起，四个所述第一凸起间隔分布且开口相对，以卡定所述第一尺寸的晶圆匣底部的两个支撑条的端部；设置在所述两个支撑板上的四个L形的第二凸起，四个所述第二凸起间隔分布且开口相对，以卡定所述第二尺寸的晶圆匣底部的两个支撑条的端部；且四个所述第一凸起环绕在四个所述第二凸起的四周； 所述清洗设备还包括设置在所述两个支撑板之间且用于将所述晶圆匣从一个支撑单元转移到另一个支撑单元上的第一转运单元；所述第一转运单元包括： 用于托住所述第一尺寸的晶圆匣底部或所述第二尺寸的晶圆匣底部的托板，且所述托板位于所述两个支撑板之间的空隙处； 设置在所述支撑结构上且与所述托板的下表面固定连接的推杆，且所述推杆能够沿竖直方向带动所述托板上下滑动，还能够沿水平方向带动所述托板从一个所述支撑单元处移动到另一个所述支撑单元处。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司，其通讯地址为：100029 北京市朝阳区北土城西路3号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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