ASML荷兰有限公司M·皮萨伦科获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利使用机器学习来生成用于晶片检查的预测图像的系统和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114521234B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080065924.3，技术领域涉及：G01N23/2251；该发明授权使用机器学习来生成用于晶片检查的预测图像的系统和方法是由M·皮萨伦科;S·A·米德尔布鲁克;M·J·马斯洛;M-C·范拉尔;C·巴蒂斯塔基斯设计研发完成，并于2020-09-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本使用机器学习来生成用于晶片检查的预测图像的系统和方法在说明书摘要公布了：提供了一种使用机器学习来生成用于晶片检查的预测图像的系统和方法。该系统和方法的一些实施例包括获取在被施加到晶片的光致抗蚀剂已被显影之后的晶片；对经显影的晶片的片段进行成像；获取在晶片已被蚀刻之后的晶片；对经蚀刻的晶片的片段进行成像；使用经显影的晶片的成像部分和经蚀刻的晶片的成像片段来训练机器学习模型；以及使用经蚀刻的晶片的成像片段来应用经训练的机器学习模型以生成经显影的晶片的预测图像。一些实施例包括对经显影的晶片的片段进行成像；对经蚀刻的晶片的片段的一部分进行成像；训练机器学习模型；以及应用经训练的机器学习模型以生成经显影的晶片的预测蚀刻后图像。
本发明授权使用机器学习来生成用于晶片检查的预测图像的系统和方法在权利要求书中公布了：1.一种用于生成SEM图像的方法，包括： 获得在晶片已被蚀刻之后的所述晶片的特征的第一图像； 利用经训练的机器学习模型来分析所述第一图像；以及 使用所述机器学习模型来生成基于与所述第一图像的所述特征相对应的对所述晶片的光致抗蚀剂应用的特征的图像，其中： 基于所述晶片的特征的多个图像，训练所述机器学习模型；以及 所述多个图像包括在光致抗蚀剂被施加到所述晶片之后的特征的图像和在所述晶片已被蚀刻之后的对应特征的图像。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人ASML荷兰有限公司，其通讯地址为：荷兰维德霍温；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励