日东电工株式会社后藤周作获国家专利权
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龙图腾网获悉日东电工株式会社申请的专利辐射线透过抑制薄膜、以及使用了该辐射线透过抑制薄膜的辐射线透过抑制滤波器和拍摄装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114258575B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080058777.7，技术领域涉及：G21F1/10；该发明授权辐射线透过抑制薄膜、以及使用了该辐射线透过抑制薄膜的辐射线透过抑制滤波器和拍摄装置是由后藤周作设计研发完成，并于2020-06-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本辐射线透过抑制薄膜、以及使用了该辐射线透过抑制薄膜的辐射线透过抑制滤波器和拍摄装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种辐射线透过抑制薄膜，可以保护拍摄装置免受辐射线影响而不会对该拍摄装置的拍摄性能产生不良影响。本发明的辐射线透过抑制薄膜包含含有硼酸的聚乙烯醇系树脂薄膜，该聚乙烯醇系树脂薄膜中的硼酸含量重量％与该聚乙烯醇系树脂薄膜的厚度μm的乘积为500以上。
本发明授权辐射线透过抑制薄膜、以及使用了该辐射线透过抑制薄膜的辐射线透过抑制滤波器和拍摄装置在权利要求书中公布了：1.一种中子射线透过抑制薄膜，其包含含有硼酸的聚乙烯醇系树脂薄膜， 该聚乙烯醇系树脂薄膜中的硼酸含量以重量％计的值与该聚乙烯醇系树脂薄膜的厚度以μm计的值的乘积为500以上， 中子射线透过抑制薄膜的透光率为80％以上。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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