常州纵慧芯光半导体科技有限公司颜虎获国家专利权
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龙图腾网获悉常州纵慧芯光半导体科技有限公司申请的专利清理装置及半导体设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223811351U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-20发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520167963.4，技术领域涉及：B08B5/02；该实用新型清理装置及半导体设备是由颜虎;何志芳;李辉杰;赵中华设计研发完成，并于2025-01-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本清理装置及半导体设备在说明书摘要公布了：本实用新型属于MOCVD外延片生产技术领域，公开了一种清理装置及半导体设备。该清理装置包括底座、上盖和承托件，底座的侧壁设置有第一进气口，上盖与底座转动连接，上盖能密封盖设在底座上，并与底座合围形成容纳空间，上盖的顶面设置有第二进气口和排气口，承托件转动安装于底座并收纳于容纳空间，第一进气口与承托件的侧面正对设置，承托件用于承托待清理件。通过设置第一进气口、第二进气口和排气口，在待清理件转动下，同步完成对待清理件的吹扫清理，同时，吹扫下的杂质从排气口排出，提高了对待清理件的清扫效率，降低了人工成本，同时改善了清理效果，进而避免产品良率损失。本实用新型提供的半导体设备包括上述清理装置。
本实用新型清理装置及半导体设备在权利要求书中公布了：1.一种清理装置，其特征在于，包括： 底座100，所述底座100的侧壁设置有第一进气口110； 上盖200，与所述底座100转动连接，所述上盖200能密封盖设在所述底座100上，并与所述底座100合围形成容纳空间，所述上盖200的顶面设置有第二进气口210和排气口220； 承托件，转动安装于所述底座100并收纳于所述容纳空间，所述第一进气口110与所述承托件的侧面正对设置，所述承托件用于承托待清理件20。
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