华南理工大学高红霞获国家专利权
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龙图腾网获悉华南理工大学申请的专利基于Faster-RCNN模型的元器件弱缺陷高精度检测方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116596837B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-20发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310235751.0,技术领域涉及:G06T7/00;该发明授权基于Faster-RCNN模型的元器件弱缺陷高精度检测方法是由高红霞;莫宜锦;陈山娇;李冠基;杨伟朋设计研发完成,并于2023-03-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于Faster-RCNN模型的元器件弱缺陷高精度检测方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种基于Faster‑RCNN模型的元器件弱缺陷高精度检测方法,包括:1元器件图像采集;2对原始图像进行双线性插值,得到为原图两倍大小的超尺度图;3对原图进行特征提取,得到原图特征;对超尺度图做特征提取,得到超尺度图特征;4对超尺度图特征进行最大值下采样,与原图特征对齐;5将超尺度图特征与原图特征进行拼接融合;6将融合后的特征图输入检测头,进行缺陷的定位及分类。本发明基于Faster‑RCNN模型对电子元器件缺陷检测,加强了对弱缺陷的检测能力,缓解了现有技术对元器件弱缺陷检测精度不高的问题,提高了元器件缺陷的整体检测精度。
本发明授权基于Faster-RCNN模型的元器件弱缺陷高精度检测方法在权利要求书中公布了:1.基于Faster-RCNN模型的元器件弱缺陷高精度检测方法,其特征在于,包括以下步骤: 1采集待检测元器件的原始图像; 2对步骤1的原始图像进行双线性插值,得到为原始图像两倍大小的超尺度图; 3将原始图像作为Faster-RCNN模型第一流的输入,经过整个特征提取模块进行特征提取,得到包含高级语义信息的原图特征; 将超尺度图作为Faster-RCNN模型第二流的输入,经过特征提取模块的前三层网络进行特征提取,保留超尺度图中有利于弱缺陷检测的细节信息,得到超尺度图特征; 以Faster-RCNN为基础模型,使用Resnet50作为特征提取模块,分别提取原始图像和超尺度图的特征;使用Resnet50对原始图像进行特征提取,得到包含丰富语义信息的原图特征;为了保留超尺度图中利于缺陷检测的细节信息,只使用Resnet50的前三层对超尺度图进行特征提取,得到包含浅层细节信息的超尺度图特征;Resnet50由卷积层、池化层、非线性映射组成; 其卷积过程如下: 式中,f1[x,y]为图像在x,y区域的数据,w[x,y]为卷积核,f2[x,y]为卷积后所得特征,ni、nj代表距离卷积中心的偏移距离,n1、n2分别为卷积垂直方向最大偏移距离和水平方向最大偏移距离,f[x+ni,y+nj]为图像在x+ni,y+nj的数值,w[ni,nj]为卷积核在ni,nj位置的权重; 其非线性映射过程: f3[x,y]=max0,f2[x,y] 式中,f3[x,y]为做非线性映射后得到的特征图; 4对超尺度图特征进行最大值下采样,与原图特征大小对齐; 5将上一步得到的超尺度图特征与原图特征拼接,使用1*1的卷积核将拼接后的特征图进行通道变换和融合; 6将上一步融合后的特征图输入Faster-RCNN模型的检测头,进行元器件缺陷的定位及分类,输出缺陷检测信息。
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