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龙图腾网获悉中国地质大学(北京)申请的专利泥浆污染岩屑可靠地球化学数据的识别与处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116591672B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310724400.6，技术领域涉及：E21B49/00；该发明授权泥浆污染岩屑可靠地球化学数据的识别与处理方法是由侯读杰;张自鸣;严夏泽;陈威合;程熊;贾振杰;李燕;边洁晶;司威;邓思哲;梁军设计研发完成，并于2023-06-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本泥浆污染岩屑可靠地球化学数据的识别与处理方法在说明书摘要公布了：本发明公开了泥浆污染岩屑可靠地球化学数据的识别与处理方法，涉及岩屑样品地球化学测试技术领域，F1、污染数据识别阶校正，F2、确定污染误差，F3、针对无热解谱图的井，并利用污染递增规律递推污染量，总结出两种校正模式。本发明的技术方案适用于被水基泥浆中的固体粉末状添加剂污染的岩屑样品，要求要有周边未受到污染的井的样品作为对比判断目标井样品是否受到污染、必须有岩心井壁心样品作为标准样品、部分井的热解谱图，通过本技术识别并校正后的污染样品的TOC和S2参数回归到岩心所在区域，消除了有机质丰度评价中的误差，同时使用本技术识别并校正后的污染样品的氢指数回归到岩心所在区域，消除了有机质类型评价中的优化效应。

本发明授权泥浆污染岩屑可靠地球化学数据的识别与处理方法在权利要求书中公布了：1.泥浆污染岩屑可靠地球化学数据的识别与处理方法，其特征在于，包括以下步骤： F1、污染数据识别阶校正，过程包括： F11、泥浆污染样品的识别：将目标样品的数据和相邻钻井未受到污染的样品数据投到S2—TOC交会图版，若这些样品点落在同一条趋势线上，则表明目标样品未受到泥浆添加剂污染，若目标样品明显偏离未受到污染样品的趋势线，则表明目标样品受到泥浆添加剂的污染，判断标注两种模式，一种是某口井连续深度的点偏离趋势线，另一种是个别点偏离趋势线； F12、确定S2峰组成情况：由于油基泥浆污染，在热解谱图上会呈现双峰现象，即污染峰S2-1和真实峰S2-2，利用软件手动积分，对S2-1与S2-2组成的双峰和S2-2单峰分别积分，求出其对应的积分面积，记作总峰面积为W总，峰S2-1面积为W污染，S2-2峰面积为W真实，三者关系为： W总＝W污染+W真实； F13、TOC与S2校准：利用步骤F12中求出的峰面积和S2原来的污染值，将W真实与W总的比值乘以原来S2的数值即为校正后S2的校正值，分别记作S2污染样品和S2真实，利用TOC污染数值和W污染进一步校准TOC，分别记作TOC污染样品和TOC真实，它们关系之间计算关系如下： S2真实＝S2污染样品×W真实W总 TOC真实＝TOC污染样品-0.083×W污染； F14、S1校正：此过程与步骤F13中S2校正过程基本一致，区别是首先利用S1与S2的交汇图确定S1存在污染的井和污染深度，后续依照步骤S12和步骤F13的方法对S1进行校正； F2、确定污染误差； F3、针对无实验分离峰、无热解谱图、无壁心岩心数据的样品的井，利用已知井的污染数据处理结果，得出污染随钻深度的递增量，总结出污染连续增长和污染异常点两种校正模式，模式一为随深度增大污染也随之增大，模式二为在个别深度出现异常高点，针对这两种模式，结合步骤F11中S2—TOC交会图版的判识结果，连续深度出现污染的井采用模式一校正，个别深度出现污染高值的井采用模式二校准，两种模式校准方法如下： 模式一：假定起始深度为D1，污染点位深度为D2，设定未知井起始污染比例为A，每米增长污染比例为ΔA,污染总量比例为A总 A总＝A+ΔA×D2-D1 S’2真实＝S2污染样品×1-A总 TOC’真实＝TOC’污染样品-0.083×A总； 模式二：针对异常点的污染校正，假定污染平均占比为A平均 S’2某深度真实＝S2某污染深度×1-A平均 TOC’某深度真实＝TOC’某污染深度-0.083×A平均。

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