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龙图腾网获悉长鑫存储技术有限公司申请的专利半导体处理设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115995401B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111208156.5，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权半导体处理设备是由朱苏凯;黄焱誊设计研发完成，并于2021-10-18向国家知识产权局提交的专利申请。

本半导体处理设备在说明书摘要公布了：一种半导体处理装置，包括供液装置和承接装置，所述承接装置在制程开始前，控制承接槽底部的出液口关闭，并将所述承接槽移动到所述喷嘴下方以及所述待处理晶圆上方的喷吐位置，此时，所述供液装置控制喷嘴向所述承接槽中喷吐药液，所述传感单元检测所述药液的实时流量，所述承接槽中的药液通过排液单元实时排出，当所述传感单元检测的实时流量达到预设流量时，所述承接装置控制所述承接槽底部的出液口打开，所述喷嘴喷吐的药液穿过所述出液口喷吐到待处理晶圆的表面，制程开始。从而保证制程过程中的药液的时间流量与设定匹配，使得制程过程中药液量或体积足够，且避免了制程结束后喷嘴离开时药液非正常下滴的情况，从而改善制程效果。

本发明授权半导体处理设备在权利要求书中公布了：1.一种半导体处理设备，其特征在于，包括： 供液装置，所述供液装置包括供液单元、喷嘴和传感单元，所述供液单元用于供应药液，所述喷嘴用于将所述供液单元供应的药液喷吐出，所述传感单元用于检测所述供液单元中供应的药液的实时流量，所述供液装置还用于在制程开始前将所述喷嘴移动到待处理晶圆上方的喷吐位置； 承接装置，所述承接装置包括承接槽和与承接槽连接的排液单元，所述承接槽的底部具有能打开或关闭的出液口，所述承接槽用于承接所述喷嘴喷吐的药液，所述排液单元用于将所述承接槽中的药液排出，所述承接装置还用于在制程开始前，控制所述承接槽底部的出液口关闭，并将所述承接槽随同所述喷嘴移动到所述待处理晶圆上方的喷吐位置，所述供液装置控制喷嘴向所述承接槽中喷吐药液，所述传感单元检测所述药液的实时流量，所述承接槽中的药液通过排液单元实时排出，当所述传感单元检测的实时流量达到预设流量时，所述承接装置控制所述承接槽底部的出液口打开，所述喷嘴喷吐的药液穿过所述出液口喷吐到待处理晶圆的表面，制程开始。

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