芝浦机械电子装置株式会社滨田崇广获国家专利权
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龙图腾网获悉芝浦机械电子装置株式会社申请的专利清洗装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115910852B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211198202.2，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权清洗装置是由滨田崇广设计研发完成，并于2022-09-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本清洗装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种能够减少清洗液再次附着于基板并维持基板清洁的清洗装置。实施方式的清洗装置1具备：多个辊100，其包含传递部101和基体部102，该传递部101与基板W接触并使基板W旋转，该基体部102的直径从传递部101起扩张，该基体部102包含位于基板W的下方的上表面102a；清洗液喷出部40，其相对于基板W喷出清洗液L；以及清洗部，其通过使刷子25接触于旋转的基板W的至少一个面来清洗基板W的面，在基体部102的上表面102a形成有从辊100的旋转中心侧到达外周的槽103。
本发明授权清洗装置在权利要求书中公布了：1.一种清洗装置，其特征在于， 该清洗装置具备： 多个辊，其包含传递部和基体部，所述传递部呈圆柱形状，所述传递部的侧面与基板接触并使所述基板旋转，所述基体部呈直径从所述传递部起扩张的圆柱形状，所述基体部包含位于所述基板的下方、且能够载置所述基板的上表面，所述基体部的所述上表面的外周通过曲面与所述基体部的侧面连续； 清洗液喷出部，其相对于所述基板喷出清洗液；以及 清洗部，其通过使刷子接触于旋转的所述基板的至少一个面来清洗所述基板的面， 在所述上表面形成有从所述辊的旋转中心侧到达所述外周的多个槽。
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