东京毅力科创株式会社近藤裕志获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利等离子体处理装置和盖构件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115881503B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210931228.7，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权等离子体处理装置和盖构件是由近藤裕志;古屋治彦设计研发完成，并于2022-08-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本等离子体处理装置和盖构件在说明书摘要公布了：本发明涉及等离子体处理装置和盖构件。即使在处理容器的上部配置有放射微波的放射部的情况下，也能够利用远程等离子体进行清洁。处理容器在内部配置有载置基板的载置台，该处理容器在载置台的上侧形成有开口。盖构件将处理容器的开口密封。盖构件在与载置台相对的区域形成有用于配置放射微波的放射部的一个或多个贯通孔，盖构件在成为处理容器的内部侧的第1面形成有沿着开口的边缘向处理容器的内部侧突出的突出部，在突出部的内部形成有流路，在第1面形成有与流路连通的多个气孔，盖构件在成为处理容器的外部侧的第2面形成有与流路连通的供给口。远程等离子体单元与供给口连接，将清洁气体等离子体化并向供给口供给。
本发明授权等离子体处理装置和盖构件在权利要求书中公布了：1.一种等离子体处理装置，其中， 该等离子体处理装置具有： 处理容器，其在内部配置有载置基板的载置台，该处理容器在所述载置台的上侧形成有开口； 盖构件，其将所述处理容器的所述开口密封，所述盖构件具有成为所述处理容器的内部侧的第1面以及成为所述处理容器的外部侧的第2面，且所述盖构件在与所述载置台相对的区域形成有用于配置放射微波的放射部的一个或多个贯通孔，所述盖构件还具有从所述盖构件的边缘向下方突出的环状突出部，所述环状突出部在剖视时以包围所述第1面的中央部分的方式向所述处理容器的内部侧突出，在所述环状突出部的内部形成有环状流路，在所述环状突出部形成有与所述环状流路连通并朝向所述处理容器的内部侧开口的多个气孔，所述盖构件在所述第2面形成有与所述环状流路连通的供给口；以及 远程等离子体单元，其与所述供给口连接，将清洁气体等离子体化并向所述供给口供给。
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