索尔维公司S·德鲁获国家专利权
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龙图腾网获悉索尔维公司申请的专利用于基于偏二氟乙烯聚合物的膜的包含两性离子部分的聚合物添加剂获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114845799B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080087944.0，技术领域涉及：B01D71/34；该发明授权用于基于偏二氟乙烯聚合物的膜的包含两性离子部分的聚合物添加剂是由S·德鲁;E·迪尼科洛;G·戈迪;M-P·拉布;B·帕瓦格奥;D·J·威尔逊;H·乔伊法设计研发完成，并于2020-12-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于基于偏二氟乙烯聚合物的膜的包含两性离子部分的聚合物添加剂在说明书摘要公布了：本发明涉及适合于制造基于偏二氟乙烯VDF聚合物的膜的组合物、其多孔膜、其制造方法及其用途，尤其是用于水相的过滤。所述包含偏二氟乙烯VDF聚合物和包含两性离子部分的聚合物添加剂的组合物提供了制造的膜的出色的亲水性能。
本发明授权用于基于偏二氟乙烯聚合物的膜的包含两性离子部分的聚合物添加剂在权利要求书中公布了：1.一种组合物C，其包含： -至少一种偏二氟乙烯VDF聚合物[聚合物VDF]，以及 -至少一种聚合物[聚合物N-ZW]，其包含衍生自至少一种具有至少两个离子基团并进一步包含至少一个羟基的烯键式不饱和单体的两性离子重复单元[单元RZW]，这些离子基团中的至少一个是阳离子基团[基团C+]并且这些离子基团中的至少一个是阴离子基团[基团A-]；并且还包含不同于单元RZW的衍生自至少一种没有可离子化基团的烯键式不饱和单体的重复单元[单元RN]，其中单元RN衍生自甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯和丙烯酸丁酯，并且，其中聚合物N-ZW包含相对于聚合物N-ZW的重复单元的总摩尔数按摩尔计从0.1%至7%的单元RZW。
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