Document
拖动滑块完成拼图
个人中心

预订订单
商城订单
发布专利 发布成果 人才入驻 发布商标 发布需求

请提出您的宝贵建议,有机会获取IP积分或其他奖励

投诉建议

在线咨询

联系我们

龙图腾公众号
首页 专利交易 IP管家助手 科技果 科技人才 积分商城 国际服务 商标交易 会员权益 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索
当前位置 : 首页 > 专利喜报 > 信越化学工业株式会社岩崎凌获国家专利权

信越化学工业株式会社岩崎凌获国家专利权

买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!

龙图腾网获悉信越化学工业株式会社申请的专利氟化钇系喷涂被膜、喷涂构件及氟化钇系喷涂被膜的制造方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114829667B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-20发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202080088163.3,技术领域涉及:C23C4/04;该发明授权氟化钇系喷涂被膜、喷涂构件及氟化钇系喷涂被膜的制造方法是由岩崎凌;浜谷典明;谷口友悟设计研发完成,并于2020-12-09向国家知识产权局提交的专利申请。

氟化钇系喷涂被膜、喷涂构件及氟化钇系喷涂被膜的制造方法在说明书摘要公布了:通过对包含斜方晶系的YF33晶相、不含斜方晶系以外的YF33晶相的喷涂粉进行等离子体喷涂,制造包含斜方晶系的YF33晶相、不含斜方晶系以外的YF33晶相、维氏硬度为350以上的氟化钇系喷涂被膜。能够提供被膜硬度高、暴露于卤素系气体等离子体时产生的粒子量少的氟化钇系喷涂被膜,这样的喷涂被膜作为半导体制造工序中使用的半导体制造装置用构件中所形成的喷涂被膜优异。另外,根据本发明,能够高效率地制造这样的氟化钇系喷涂被膜。

本发明授权氟化钇系喷涂被膜、喷涂构件及氟化钇系喷涂被膜的制造方法在权利要求书中公布了:1.一种氟化钇系喷涂被膜,其特征在于,包含斜方晶系的YF3晶相和氧氟化钇晶相,不含斜方晶系以外的YF3晶相,由归属于斜方晶系的YF3晶相的101面、020面及210面的衍射峰的半幅值、通过Williamson-Hall法所求出的平均微晶尺寸为5nm以上且40nm以下,维氏硬度为400以上。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人信越化学工业株式会社,其通讯地址为:日本东京;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。