合肥京东方瑞晟科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司张冰获国家专利权
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龙图腾网获悉合肥京东方瑞晟科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司申请的专利发光基板及其制造方法、显示装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114551695B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-20发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210178770.X,技术领域涉及:H10H20/853;该发明授权发光基板及其制造方法、显示装置是由张冰;王肖;耿霄霖;秦建伟;高亮设计研发完成,并于2022-02-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本发光基板及其制造方法、显示装置在说明书摘要公布了:本公开提供一种发光基板及其制造方法、显示装置,该发光基板包括:基底;金属走线层,设置在所述基底上;第一保护胶层,覆盖在所述金属走线层上,并被配置为:暴露出所述金属走线层的导电垫;以及发光单元,与所述导电垫电连接。
本发明授权发光基板及其制造方法、显示装置在权利要求书中公布了:1.一种发光基板,包括: 基底; 金属走线层,设置在所述基底上; 第一保护胶层,覆盖在所述金属走线层上,并被配置为:暴露出所述金属走线层的导电垫;以及 发光单元,与所述导电垫电连接; 其中,所述发光基板还包括设置在所述第一保护胶层上的反射层,所述第一保护胶层的制作材料包括三防胶,所述反射层包括白色油墨; 其中,所述发光基板还包括保护透镜,所述保护透镜设置在所述发光单元上;所述保护透镜的边缘在所述基底上的正投影位于所述反射层在所述基底上的正投影之中;所述发光基板还包括设置在所述反射层和所述保护透镜之间的第二保护胶层;所述第二保护胶层的尺寸满足: L=D+d+t1+t2+t3 其中,L为所述第二保护胶层的相对的外侧边缘之间的距离,D为所述保护透镜的直径,d为所述第二保护胶层的外侧边缘与所述保护透镜的外侧边缘之间的间距,t1为所述保护透镜的位置预留量,t2为所述保护透镜的形状预留量,t3为所述第二保护胶层的位置预留量。
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