信越化学工业株式会社高坂卓郎获国家专利权
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龙图腾网获悉信越化学工业株式会社申请的专利相移掩模坯料和相移掩模获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111752087B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010227055.1，技术领域涉及：G03F1/26；该发明授权相移掩模坯料和相移掩模是由高坂卓郎设计研发完成，并于2020-03-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本相移掩模坯料和相移掩模在说明书摘要公布了：本发明提供一种相移掩模坯料和相移掩模。该相移掩模坯料包括衬底和其上的相移膜，该相移膜由含有硅和氮且不含过渡金属的材料组成，该相移膜包括至少一个组成渐变层，该组成渐变层具有在厚度方向上连续变化的组成，以及在厚度方向上变化的对于曝光光的折射指数n和消光系数k，该曝光光是KrF准分子激光，该组成渐变层的最大折射指数nH与最小折射指数nL之间的差为0.40以下，最大消光系数kH与最小消光系数kL之间的差为1.5以下。
本发明授权相移掩模坯料和相移掩模在权利要求书中公布了：1.一种相移掩模坯料，其包含衬底和其上的相移膜，所述相移膜由含有硅和氮且不含过渡金属的材料组成，其中 相对于KrF准分子激光的曝光光，所述相移膜具有170至190°的相移和4至8％的透射率，以及85-90nm的厚度，所述相移膜包含至少一个组成渐变层，所述组成渐变层具有在厚度方向上连续变化的组成和在厚度方向上变化的对于曝光光的折射指数n和消光系数k， 所述组成渐变层的最大折射指数nH与最小折射指数nL之间的差为0.40以下，最大消光系数kH与最小消光系数kL之间的差为1.5以下。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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