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晶元光电股份有限公司谢明勋获国家专利权

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龙图腾网获悉晶元光电股份有限公司申请的专利发光元件的加工方法及利用其的系统与装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN111697111B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-20发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202010177939.0,技术领域涉及:H10H29/01;该发明授权发光元件的加工方法及利用其的系统与装置是由谢明勋;李昌霖设计研发完成,并于2020-03-13向国家知识产权局提交的专利申请。

发光元件的加工方法及利用其的系统与装置在说明书摘要公布了:一种发光元件加工方法,包含:分配晶圆上的多个发光元件群组,到多个类别,各发光元件群组的发光元件之间,包括晶圆水平节距与晶圆垂直节距;将类别相同的发光元件,从各晶圆转移到基板上;根据第一预定模式,从至少一类别的各基板上,转移发光元件到第一阶段载具,第一阶段载具上发光元件具有第一水平节距与第一垂直节距;以及根据第二预定模式,从第一阶段载具,转移发光元件到第二阶段载具,第二预定模式的发光元件具有第二水平节距与第二垂直节距。第一预定模式安排基板沿第一方向排列的两个相邻的发光元件,放置在第一阶段载具沿第一方向上非相邻位置。

本发明授权发光元件的加工方法及利用其的系统与装置在权利要求书中公布了:1.一种发光元件装置,包含: 载具;以及 多个发光元件,配置于该载具上,该多个发光元件具有多个类别并被划分为多个矩阵; 其中,该多个矩阵彼此可被区别, 其中,该多个矩阵中的发光元件具有相同的发射颜色, 其中,该多个类别按照出光波长、出光强度,或者色标进行分类,以及 其中,该多个矩阵分别为二维矩阵,每个二维矩阵包含一个中央发光元件与数个周围发光元件,该数个周围发光元件环绕该中央发光元件; 其中,该多个矩阵中各个矩阵具有均混指数,对于每个矩阵,该矩阵的均混指数为该矩阵的中央发光元件的类别的数值与周围发光元件的类别的数值之差的平均值; 其中,该多个矩阵中预定百分比的矩阵的均混指数大于参考值,该预定百分比为不小于60%的数值,该参考值为波长阈值或强度阈值。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人晶元光电股份有限公司,其通讯地址为:中国台湾新竹市;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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