江西兆驰集成科技有限公司;江西兆驰半导体有限公司刘厚政获国家专利权
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龙图腾网获悉江西兆驰集成科技有限公司;江西兆驰半导体有限公司申请的专利一种晶圆清洗装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223810115U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-16发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422655350.3，技术领域涉及：H10P70/00；该实用新型一种晶圆清洗装置是由刘厚政;葛新荣;董务乐;赵晓明;董国庆;文国昇;金从龙设计研发完成，并于2024-10-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种晶圆清洗装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种晶圆清洗装置，包括支撑机构、清洗机构、和驱动机构；支撑机构包括支撑架和吸附组件；清洗机构包括清洗槽和清洗组件；驱动机构包括第一驱动组件和第二驱动组件；晶圆被吸附于清洗槽中心，清洗组件设于清洗槽远离第一驱动组件的一侧，通过调节水平高度，使清洗组件接触晶圆表面，通过第一驱动组件带动晶圆转动，将清洗污水向晶圆边缘进行输送，从晶圆和清洗槽之间排出。本实用新型通过设置有清洗组件，对晶圆表面进行清理，将清理产生的污水向晶圆边缘进行输送，通过第一驱动组件带动吸附组件转动进而带动晶圆转动，使得清洗产生的污水快速从晶圆和清洗槽之间的缝隙流出，避免污水在晶圆表面停留，提高了清洗效率和清洗效果。
本实用新型一种晶圆清洗装置在权利要求书中公布了：1.一种晶圆清洗装置，其特征在于，所述晶圆清洗装置包括支撑机构、设于所述支撑机构上的清洗机构、以及用于驱动所述清洗机构的驱动机构； 支撑机构，包括用于支撑清洗机构的支撑架，和用于支撑并带动晶圆转动的吸附组件； 清洗机构，包括架设于所述支撑架上的清洗槽，和用于清洗晶圆的清洗组件； 驱动机构，包括带动所述吸附组件转动的第一驱动组件，和用于驱动所述清洗组件转动的第二驱动组件； 其中，晶圆被吸附于所述清洗槽中心，所述清洗组件设于所述清洗槽远离第一驱动组件的一侧，并通过调节水平高度，以使清洗组件接触晶圆表面，通过第一驱动组件带动晶圆转动，以将清洗污水向晶圆边缘进行输送，从晶圆和清洗槽之间排出。
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