上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司刘澄溦获国家专利权
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龙图腾网获悉上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司申请的专利一种标准片获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223808625U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-16发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520489728.9,技术领域涉及:G03F1/44;该实用新型一种标准片是由刘澄溦;王梦知;张政;段振红;李潇汉设计研发完成,并于2025-03-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种标准片在说明书摘要公布了:本实用新型公开了一种标准片,应用于掩模基板入场检测技术领域,包括:掩模版;掩模版表面设置有颗粒单元阵列;颗粒单元阵列包括至少两个颗粒单元;每个颗粒单元包括至少两个颗粒阵列,且颗粒阵列沿第一方向依次排布;每个颗粒阵列包括至少两个颗粒;每个颗粒阵列中的所有颗粒的粒径相同,且对于同一颗粒单元内沿第一方向的各颗粒阵列,其颗粒的粒径依次增大。可直接得到明确的标准,不需要通过机台检测去确定,不会因机台检测能力误差,而导致标准片的标准产生误差;可覆盖更广泛的技术节点;提高了重复性,可防止制作过程中的局部失败从而导致尺寸缺少,可防止标准片使用中的局部检测误差影响整体结果;可支持多次清洗,能够长时间连续使用。
本实用新型一种标准片在权利要求书中公布了:1.一种标准片,其特征在于,包括:掩模版;所述掩模版表面设置有颗粒单元阵列;所述颗粒单元阵列包括至少两个颗粒单元;每个所述颗粒单元包括至少两个颗粒阵列,且所述颗粒阵列沿第一方向依次排布;每个所述颗粒阵列包括至少两个颗粒;每个所述颗粒阵列中的所有所述颗粒的粒径相同,且对于同一所述颗粒单元内沿所述第一方向的各所述颗粒阵列,其所述颗粒的粒径依次增大。
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