华南理工大学孟庆林获国家专利权
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龙图腾网获悉华南理工大学申请的专利一种低辐射膜获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223806041U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-16发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520134575.6，技术领域涉及：E06B5/18；该实用新型一种低辐射膜是由孟庆林;毛会军;吕潇洋;朱刚毅;朱刚劲;朱目朗设计研发完成，并于2025-01-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种低辐射膜在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种低辐射膜，包括采用ETFE制成的基膜，在基膜的外侧设有保护层，所述基膜的内侧设有介质层和辐射层，所述介质层和辐射层均为一层，且沿远离基膜方向依次设置。本实用新型可有效阻隔红外热量的辐射换热，实现良好的隔热和降温效果，缓解夏季室内过热的问题，降低建筑能耗，且具有很的使用寿命。
本实用新型一种低辐射膜在权利要求书中公布了：1.一种低辐射膜，其特征在于：包括采用ETFE制成的基膜，在基膜的外侧设有保护层，所述基膜的内侧设有介质层和辐射层，所述介质层和辐射层均为一层，且沿远离基膜方向依次设置；或者所述介质层和辐射层均为两层，且沿远离基膜方向，介质层和辐射层交替设置。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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