创微微电子(常州)有限公司左国军获国家专利权
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龙图腾网获悉创微微电子(常州)有限公司申请的专利晶圆清洗设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223798643U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-13发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520115180.1，技术领域涉及：H10P72/00；该实用新型晶圆清洗设备是由左国军;蔡嘉雄;孙伟设计研发完成，并于2025-01-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本晶圆清洗设备在说明书摘要公布了：本实用新型属于半导体生产设备制造领域，具体涉及一种晶圆清洗设备。本晶圆清洗设备包括：机架，和设置在机架内的浸泡装置、若干清洗装置、移料装置；所述浸泡装置包括：浸泡槽，其内设置有翻转机构；所述翻转机构内设置有多格晶圆盒，以放置待清洗的晶圆，以使各晶圆间留有浸泡间隙；其中，待清洗的晶圆经浸泡槽浸泡后，所述翻转机构翻转使晶圆处于近似水平状态，所述移料装置夹取水平状态的晶圆分别运送至相应方位的清洗装置。本晶圆清洗设备在晶圆正式清洗前设置浸泡装置，对晶圆进行批量预清洗的同时使晶圆盒内的各晶圆始终保持湿润状态，正式清洗时无需再单片润湿晶圆，从而加快了正式清洗的效率。
本实用新型晶圆清洗设备在权利要求书中公布了：1.一种晶圆清洗设备，其特征在于，包括： 机架100，和设置在机架100内的浸泡装置200、若干清洗装置300、移料装置500； 所述浸泡装置200包括： 浸泡槽220，其内设置有翻转机构210； 所述翻转机构210内设置有多格晶圆盒215，以放置待清洗的晶圆216，以使各晶圆间留有浸泡间隙； 其中，待清洗的晶圆216经浸泡槽220浸泡后，所述翻转机构210翻转使晶圆216处于近似水平状态，所述移料装置500夹取水平状态的晶圆216分别运送至相应方位的清洗装置300。
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