浙江创芯集成电路有限公司陶宇翔获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江创芯集成电路有限公司申请的专利湿法清洗设备获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223798623U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-13发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520232464.9,技术领域涉及:H10P70/00;该实用新型湿法清洗设备是由陶宇翔;李平;郭东谕;汤云杰;宋喆宏设计研发完成,并于2025-02-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本湿法清洗设备在说明书摘要公布了:本公开实施例提供了一种湿法清洗设备,包括:湿法清洗腔室;可旋转的伯努利台盘,位于所述湿法清洗腔室内,用于放置晶圆;所述晶圆吸附于所述伯努利台盘上,且正面朝向所述伯努利台盘;回收杯组件,围绕所述伯努利台盘设置,以收集所述晶圆旋转时甩出的液体;其中,所述回收杯组件包含多层杯体,每层杯体的部分顶部或全部顶部,其承接所述液体的表面具有凹陷部和或凸起部。采用上述技术方案,能够有效处理化学液体飞溅到回收杯上时形成反溅的问题。
本实用新型湿法清洗设备在权利要求书中公布了:1.一种湿法清洗设备,其特征在于,包括: 湿法清洗腔室; 可旋转的伯努利台盘,位于所述湿法清洗腔室内,用于放置晶圆; 所述晶圆吸附于所述伯努利台盘上,且正面朝向所述伯努利台盘; 回收杯组件,围绕所述伯努利台盘设置,以收集所述晶圆旋转时甩出的液体; 其中,所述回收杯组件包含多层杯体,每层杯体的部分顶部或全部顶部,其承接所述液体的表面具有凹陷部和或凸起部。
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