惠州锂威电子科技有限公司马辛获国家专利权
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龙图腾网获悉惠州锂威电子科技有限公司申请的专利一种隔膜涂布装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223793226U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-13发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202423265081.6，技术领域涉及：C23C14/24；该实用新型一种隔膜涂布装置是由马辛;孙先维;赖旭伦设计研发完成，并于2024-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种隔膜涂布装置在说明书摘要公布了：本申请公开了一种隔膜涂布装置，属于涂布装置领域。本申请利用蒸发源使材料槽内的材料蒸发，形成气态材料；利用位于真空腔室两端的进气口和出气口以及分别与它们连通的气体引入系统和真空排气系统，使气态材料能沿进气口至出气口的方向流动，同时将第一传送带倾斜设置，使气流方向与隔膜基体表面呈一定的夹角以确保气态材料更好的沉积在隔膜基体上；另外，利用磁场与电场控制系统在真空腔室的沉积区域内形成磁场与电场，从而使气态材料在压力差、磁场及电场的共同作用下向置于所述第一传送带正面上的隔膜基体迁移并沉积，这样形成的涂层厚度均匀，结构致密，附着力强，还能保持隔膜原有的孔隙结构。
本实用新型一种隔膜涂布装置在权利要求书中公布了：1.一种隔膜涂布装置，其特征在于，包括真空腔室、材料槽、材料蒸发源、传送带、气体引入系统、真空排气系统以及磁场与电场控制系统； 所述真空腔室包括进气口和出气口，所述进气口位于所述真空腔室的一端并与所述气体引入系统连通，所述出气口位于所述真空腔室的另一端并与真空排气系统连通； 所述真空腔室包括沉积区域，所述传送带包括第一传送带，所述材料槽和所述第一传送带沿所述进气口至所述出气口的方向依次分布于所述沉积区域内，所述材料槽位于所述第一传送带正面的底部旁，所述第一传送带与水平面的夹角θ满足：0＜θ≤90°； 所述材料蒸发源用于使所述材料槽内的材料蒸发； 所述磁场与电场控制系统用于在所述沉积区域内形成磁场与电场。
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