富士胶片株式会社片山晃男获国家专利权
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龙图腾网获悉富士胶片株式会社申请的专利感光性转印材料、树脂图案的制造方法、电路配线的制造方法及触摸面板的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116235111B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180063610.4，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权感光性转印材料、树脂图案的制造方法、电路配线的制造方法及触摸面板的制造方法是由片山晃男;有富隆志;望月英宏设计研发完成，并于2021-08-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本感光性转印材料、树脂图案的制造方法、电路配线的制造方法及触摸面板的制造方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种感光性转印材料、以及使用上述感光性转印材料的树脂图案的制造方法、电路配线的制造方法及触摸面板的制造方法，所述感光性转印材料具有：临时支承体；以及包含碱溶性树脂、烯属不饱和化合物及光聚合引发剂的感光性树脂层，将上述感光性树脂层用以mJcm22为单位的曝光量Ep曝光10μm10μm的线与空间图案之后，经过3小时时的双键反应区域宽度W33与经过24小时时的双键反应区域宽度W2424满足W2424W33≤1.05。
本发明授权感光性转印材料、树脂图案的制造方法、电路配线的制造方法及触摸面板的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种感光性转印材料，其具有： 临时支承体；以及 包含碱溶性树脂、烯属不饱和化合物及光聚合引发剂的感光性树脂层， 所述感光性树脂层还包含阻聚剂， 将所述感光性树脂层中的所述光聚合引发剂的含量设为Rc、所述阻聚剂的含量设为Rd的情况下，质量比RdRc的值为0.02以上且0.1以下， 将所述感光性树脂层用以mJcm2为单位的曝光量Ep曝光10μm10μm的线与空间图案之后，经过3小时时的双键反应区域宽度W3与经过24小时时的双键反应区域宽度W24满足W24W3≤1.05， W3及W24设为将经曝光的感光性转印材料进行溴染色之后，通过二次离子质谱分析法得到的双键反应区域宽度， 所述Ep满足Ep=2×Eb， 所述Eb设为表示将所述感光性树脂层贴附在基板上之后，隔着15阶阶梯光楔通过照度20mWcm2的高压汞灯以曝光量180mJcm2进行曝光，赋予显影后的感光性树脂层的层厚±1%的残留层厚的阶数的曝光量。
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