中微半导体设备(上海)股份有限公司姜勇获国家专利权
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龙图腾网获悉中微半导体设备(上海)股份有限公司申请的专利一种衬底支撑装置及衬底处理设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116219412B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111459188.2，技术领域涉及：C23C16/458；该发明授权一种衬底支撑装置及衬底处理设备是由姜勇;丁伟设计研发完成，并于2021-12-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种衬底支撑装置及衬底处理设备在说明书摘要公布了：本发明提供一种衬底支撑装置，包含：托盘,设置于衬底处理设备的反应腔内，用于支撑衬底；托盘底面设有第一限位部；衬套,其具有筒形结构，所述衬套设置在托盘下方并为托盘提供支撑，衬套侧壁设有与所述第一限位部位置对应的第二限位部，通过第一限位部与对应的所述第二限位部配合，限制衬套与托盘旋转时二者在水平方向的相对移动。本发明还提供一种衬底处理设备。通过本发明能够保证托盘与衬套同步旋转，使得托盘均匀受热，保证衬底表面温度的均匀性。
本发明授权一种衬底支撑装置及衬底处理设备在权利要求书中公布了：1.一种衬底支撑装置，用于衬底处理设备，所述衬底处理设备包含反应腔，其特征在于，所述衬底支撑装置包含： 托盘,设置于所述反应腔内，用于支撑衬底；托盘底面设有第一限位部； 衬套,其具有筒形结构；所述衬套设置在托盘下方并为托盘提供支撑；衬套侧壁的外侧设有与所述第一限位部位置对应的第二限位部；通过第一限位部与对应的所述第二限位部上下活动插接，限制衬套与托盘旋转时二者在水平方向的相对移动。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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