韩纳米技术株式会社河斗汉获国家专利权
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龙图腾网获悉韩纳米技术株式会社申请的专利包含聚合物粒子的消光剂、包含该消光剂的消光性高分子组合物及其制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115725014B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211053793.4，技术领域涉及：C08F212/10；该发明授权包含聚合物粒子的消光剂、包含该消光剂的消光性高分子组合物及其制造方法是由河斗汉;金秀琓;河性旭设计研发完成，并于2022-08-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本包含聚合物粒子的消光剂、包含该消光剂的消光性高分子组合物及其制造方法在说明书摘要公布了：本发明涉及包含聚合物粒子的消光剂、包含该消光剂的消光性高分子组合物及其制造方法，上述聚合物粒子可以通过悬浮聚合法这样的简单工序进行制造，具有比较容易调节交联度的优点。另外，在使用包含上述聚合物粒子的消光剂制造消光性高分子组合物时，可以制造不降低现有热塑性高分子的冲击强度和拉伸强度之类的机械特性且具有漂亮的外观的同时具有优异的消光效果的成型品，特别是，可以发挥以往在挤出加工中也难以实现的优异的消光效果。
本发明授权包含聚合物粒子的消光剂、包含该消光剂的消光性高分子组合物及其制造方法在权利要求书中公布了：1.一种聚合物粒子，由包含芳香族乙烯系化合物、不饱和腈化合物和脂环族环氧化合物的聚合性组合物制造， 平均粒径为1至5000μm，所述脂环族环氧化合物的环氧基是开环的， 其中所述聚合物粒子是悬浮聚合而制造的， 其中所述脂环族环氧化合物具有2个以上的环氧基， 其中所述聚合性组合物是相对于芳香族乙烯系化合物100重量份包含不饱和腈化合物20至45重量份和脂环族环氧化合物2.5至25重量份而制造的， 其中所述聚合性组合物还包含选自R1COOH、R2SO3H及其盐化合物中的任一种或两种以上，所述R1和R2各自独立地为C6-30烷基、C6-30芳基、或C6-30芳基C6-30烷基， 其中所述聚合性组合物相对于芳香族乙烯系化合物100重量份包含所述选自R1COOH、R2SO3H及其盐化合物中的任一种或两种以上0.05至1重量份。
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