杭州左蓝微电子技术有限公司张志民获国家专利权
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龙图腾网获悉杭州左蓝微电子技术有限公司申请的专利一种空气隙薄膜体声波滤波器制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115694386B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211183462.2，技术领域涉及：H03H3/02；该发明授权一种空气隙薄膜体声波滤波器制备方法是由张志民;张树民设计研发完成，并于2022-09-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种空气隙薄膜体声波滤波器制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种空气隙薄膜体声波滤波器制备方法，包括以下步骤：S1：在第一衬底的表面依次沉积钝化层、上电极、压电层、下电极，对下电极进行图形化；S2：在下电极上沉积支撑层，并对支撑层进行抛光和图形化后形成空腔；S3：使用第二衬底与支撑层进行键合；S4：将第一衬底消除，将第二衬底作为滤波器的衬底；S5：对钝化层、上电极、压电层进行图形化；S6：在滤波器表面沉积PAD材料；S7：根据测试结果对钝化层进行调频。本发明通过改变钝化层的生长顺序来达到不会恶化谐振器Q值的目的。优先沉积钝化层，与钝化层在空腔形成后沉积相比，不会增加材料层的应力，可以进一步提升Q值。同时没有图形化产生的台阶，钝化层膜层的一致性更优。
本发明授权一种空气隙薄膜体声波滤波器制备方法在权利要求书中公布了：1.一种空气隙薄膜体声波滤波器制备方法，其特征在于，包括以下步骤： S1：在第一衬底的表面依次沉积钝化层、上电极、压电层、下电极，对下电极进行图形化； S2：在下电极上沉积支撑层，并对支撑层进行抛光和图形化后形成空腔； S3：使用第二衬底与支撑层进行键合； S4：将第一衬底消除，将第二衬底作为滤波器的衬底； S5：对钝化层、上电极、压电层进行图形化； S6：在滤波器表面沉积PAD材料； S7：根据测试结果对钝化层进行调频。
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