三菱瓦斯化学株式会社;三菱瓦斯化学贸易株式会社内藤幸英获国家专利权
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龙图腾网获悉三菱瓦斯化学株式会社;三菱瓦斯化学贸易株式会社申请的专利钛和/或钛合金的蚀刻液、使用该蚀刻液的钛和/或钛合金的蚀刻方法、以及使用该蚀刻液的基板的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115428129B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180028400.1，技术领域涉及：C23F1/26；该发明授权钛和/或钛合金的蚀刻液、使用该蚀刻液的钛和/或钛合金的蚀刻方法、以及使用该蚀刻液的基板的制造方法是由内藤幸英;松永裕嗣;玉井聪设计研发完成，并于2021-04-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本钛和/或钛合金的蚀刻液、使用该蚀刻液的钛和/或钛合金的蚀刻方法、以及使用该蚀刻液的基板的制造方法在说明书摘要公布了：提供一种用于连续且稳定地进行处理的蚀刻方法以及该蚀刻方法中使用的组合物，该蚀刻方法能够抑制铜布线等其它金属的溶出而快速去除由钛和或钛合金形成的晶种层。更详细而言，提供一种用于蚀刻钛和或钛合金的组合物以及使用了该组合物的蚀刻方法，该组合物包含过氧化氢A、氟化物B、氟化物离子以外的卤化物离子C和水D，其中，以组合物的总量为基准，过氧化氢A的含量为0.01～0.23质量％；以组合物的总量为基准，氟化物B的含量为0.2～3质量％；以组合物的总量为基准，氟化物离子以外的卤化物离子C的含量为0.0005～0.025质量％。
本发明授权钛和/或钛合金的蚀刻液、使用该蚀刻液的钛和/或钛合金的蚀刻方法、以及使用该蚀刻液的基板的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种组合物，其为用于蚀刻钛和或钛合金的组合物，所述组合物包含过氧化氢A、氟化物B、氟化物离子以外的卤化物离子C和水D，其中， 以组合物的总量为基准，过氧化氢A的含量为0.01～0.23质量％； 以组合物的总量为基准，氟化物B的含量为0.2～3质量％； 以组合物的总量为基准，氟化物离子以外的卤化物离子C的含量为0.0005～0.025质量％， 所述组合物的pH为3.5～6。
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