买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网获悉分子等离子集团股份有限公司申请的专利用于在基材上进行大气压力等离子体射流涂层沉积的改进护罩获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115104382B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080087929.6，技术领域涉及：H05H1/42；该发明授权用于在基材上进行大气压力等离子体射流涂层沉积的改进护罩是由G·舍尔延斯;J·博瑞克-唐顿;B·肖恩斯;R·海博格设计研发完成，并于2020-12-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于在基材上进行大气压力等离子体射流涂层沉积的改进护罩在说明书摘要公布了：本发明涉及一种用于对包括物体轮廓的物体进行等离子体涂覆的方法，包括以下步骤：a.提供可更换护罩2，该护罩包括射流入口22、喷嘴出口24和从射流入口延伸到喷嘴出口的侧壁21，其中，喷嘴出口包括与物体轮廓的至少一部分基本一致的边缘25，并且由此护罩包括优选地与喷嘴出口边缘相关的识别装置；b.将可更换护罩可拆卸地附连至等离子体射流发生器的射流出口；c.将物体放置在喷嘴出口处，使得物体轮廓与喷嘴出口边缘紧密配合于至少0.1mm且优选地至多5mm的距离内，从而使喷嘴出口和物体之间的间隙最小化；d.利用低温、无氧等离子体在高于大气压，优选地至多高出大气压10％的操作压力下，通过经由等离子体射流发生器在护罩中提供等离子体射流并将涂层前体注入到护罩中的等离子体射流中，从而产生所述操作压力，来对物体进行等离子体涂覆，从而在缺氧等离子区中对物体进行等离子体涂覆，由此该方法包括一下附加步骤：在提供等离子体射流之前识别所提供的护罩。

本发明授权用于在基材上进行大气压力等离子体射流涂层沉积的改进护罩在权利要求书中公布了：1.一种用于对包括物体轮廓的物体进行等离子体涂覆的方法，所述方法包括以下步骤： a.提供可更换护罩2,所述可更换护罩包括射流入口22、喷嘴出口24和从所述射流入口延伸到所述喷嘴出口的侧壁21，其中，所述喷嘴出口包括与所述物体轮廓的至少一部分基本一致的边缘25，并且由此所述护罩包括与喷嘴出口边缘相关的识别装置； b.将所述可更换护罩可拆卸地附连至等离子体射流发生器的射流出口； c.将所述物体放置在所述喷嘴出口处，使得所述物体轮廓与所述喷嘴出口边缘紧密配合于至少0.1mm且至多5mm的距离内，从而使所述喷嘴出口和所述物体之间的间隙最小化； d.利用低温、无氧等离子体在高于大气压，最高高于大气压10％的操作压力下，通过经由所述等离子体射流发生器在所述护罩中提供等离子体射流并将涂层前体注入到所述护罩中的等离子体射流中，从而产生所述操作压力，来对所述物体进行等离子体涂覆， 从而在缺氧的等离子体区中对所述物体进行等离子体涂覆，由此所述方法包括以下附加步骤： -在提供所述等离子体射流之前识别所提供的护罩， 在步骤d中在低于120℃的温度下涂覆等离子体。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人分子等离子集团股份有限公司，其通讯地址为：卢森堡福兹；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。