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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利升降销的接触位置调整方法及检测方法和基片载置机构获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114388421B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111196924.X，技术领域涉及：H10P72/78；该发明授权升降销的接触位置调整方法及检测方法和基片载置机构是由川和敬裕设计研发完成，并于2021-10-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本升降销的接触位置调整方法及检测方法和基片载置机构在说明书摘要公布了：本发明提供能够自动且高精度地调整升降销相对于载置于基片载置台的基片的接触位置的升降销的接触位置调整方法、升降销的接触位置检测方法和基片载置机构。接触位置调整方法包括下述步骤：在基片载置台上配置基片，在对静电吸盘的电极施加电压而吸附基片的状态下，对多个电压分别生成表示使升降销的前端从比载置面靠下方的下端位置向比载置面靠上方的上端位置移动时的电机的转矩的时间变化的转矩波形；根据多个转矩波形，求取作为升降销接触到基片的时刻的接触时间点，根据接触时间点和电机的速度计算接触位置；判断接触位置是否处于适当的范围；以及在判断为接触位置偏离适当的范围的情况下，自动调整接触位置。

本发明授权升降销的接触位置调整方法及检测方法和基片载置机构在权利要求书中公布了：1.一种升降销的接触位置调整方法，其特征在于： 在基片载置机构中，调整作为升降销的前端接触到基片的高度位置的接触位置，所述基片载置机构包括：基片载置台，其具有对所述基片进行静电吸附的静电吸盘，能够载置所述基片；以及基片升降机构，其包含被设置成相对于所述基片载置台的基片载置面能够伸出及没入的所述升降销和具有使所述升降销升降的电机的驱动机构， 所述升降销的接触位置调整方法包括下述步骤： 在所述基片载置台上配置基片，对所述静电吸盘的电极施加电压而吸附所述基片的状态下，对多个电压分别生成表示使所述升降销的前端从比所述载置面靠下方的下端位置向比所述载置面靠上方的上端位置移动时的所述电机的转矩的时间变化的转矩波形； 根据多个所述转矩波形，求取作为所述升降销接触到所述基片的时刻的接触时间点，根据该接触时间点和所述电机的速度，计算所述接触位置； 判断所述接触位置是否处于适当的范围内；以及 在判断为所述接触位置偏离适当的范围的情况下，自动调整所述接触位置， 在计算所述接触位置时，将对所述多个电压分别生成的所述转矩波形重叠而求取所述接触时间点， 所述接触时间点是与所述多个电压分别对应的所述转矩波形分离的时刻。

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