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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利EUV光源中的目标材料控制获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113711697B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080021251.1，技术领域涉及：H05G2/00；该发明授权EUV光源中的目标材料控制是由A·L·G·戈文达拉朱;D·贝塞姆斯;桑迪普·莱;P·A·威廉斯;S·金卡尔;J·M·卢肯斯;J·D·特德罗设计研发完成，并于2020-03-09向国家知识产权局提交的专利申请。

本EUV光源中的目标材料控制在说明书摘要公布了：提供了一种设备，该设备包括第一储存器系统、第二储存器系统、注入系统和流体控制系统，第一储存器系统包括被配置为在喷嘴供应系统的操作期间与喷嘴供应系统流动连通的第一储液器，第二储存器系统包括被配置为在喷嘴供应系统的操作期间的时间中的至少部分时间与第一储存器系统流动连通的第二储液器，注入系统被配置为从固体物质产生流体目标材料，流体控制系统被流动连接到注入系统、第一储存器系统、第二储存器系统和喷嘴供应系统。流体控制系统被配置为在喷嘴供应系统的操作期间：将至少一个储液器和喷嘴供应系统与注入系统隔离，并且保持在至少一个储液器与喷嘴供应系统之间的流体流动路径。

本发明授权EUV光源中的目标材料控制在权利要求书中公布了：1.一种用于供应目标材料的设备，所述设备包括： 第一储存器系统，包括第一储液器，所述第一储液器被配置为在喷嘴供应系统的操作期间与所述喷嘴供应系统流动连通，所述第一储液器被保持在第一压力，其中所述喷嘴供应系统被配置为在所述操作期间供应流体目标材料； 第二储存器系统，包括第二储液器，所述第二储液器被配置为在所述喷嘴供应系统的操作期间的时间中的至少部分时间与所述第一储存器系统流动连通； 注入系统，被配置为接收包括目标材料的固体物质并且从所述固体物质产生所述流体目标材料，所述注入系统被保持在小于所述第一压力的注入压力；以及 流体控制系统，被流动连接到所述注入系统、所述第一储存器系统、所述第二储存器系统和所述喷嘴供应系统，其中所述流体控制系统被配置为： 在所述喷嘴供应系统的操作期间将至少一个储液器和所述喷嘴供应系统与所述注入系统隔离，以及 在所述喷嘴供应系统的操作期间保持在至少一个储液器与所述喷嘴供应系统之间的流体流动路径。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人ASML荷兰有限公司，其通讯地址为：荷兰维德霍温；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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