东京毅力科创株式会社上村史洋获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理方法和基板处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112582302B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010986383.X，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权基板处理方法和基板处理装置是由上村史洋;笠原政俊;南辉臣;须中郁雄设计研发完成，并于2020-09-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理方法和基板处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种基板处理方法和基板处理装置，能够抑制处理液的消耗量并且提高液处理的面内均匀性。基板处理方法包括以下工序：基板升温工序，将基板进行加热来使所述基板的温度上升；液膜形成工序，在所述基板升温工序之后，将所述基板进行加热，并且一边使所述基板以第一转速旋转一边向所述基板的第一面供给预湿液，来在所述基板的第一面形成所述预湿液的液膜；药液处理工序，在所述液膜形成工序之后，将所述基板进行加热，并且一边使所述基板以比所述第一转速低的第二转速旋转一边向所述基板的第一面供给药液，来通过所述药液对所述基板的第一面进行处理；以及基板降温工序，在所述药液处理工序之后，使所述基板的温度下降。
本发明授权基板处理方法和基板处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基板处理方法，包括以下工序： 基板升温工序，将基板进行加热来使所述基板的温度上升至第一温度； 液膜形成工序，在所述基板升温工序之后，将所述基板进行加热并使所述基板的温度下降为比所述第一温度低的第二温度并且稳定在所述第二温度，并且一边使所述基板以第一转速旋转一边向所述基板的第一面供给预湿液，来在所述基板的第一面形成所述预湿液的液膜； 药液处理工序，在所述液膜形成工序之后，将所述基板进行加热来使所述基板的温度维持为所述第二温度，并且一边使所述基板以比所述第一转速低的第二转速旋转一边向所述基板的第一面供给常温的药液，来通过所述药液对所述基板的第一面进行处理；以及 基板降温工序，在所述药液处理工序之后，使所述基板的温度下降。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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