政汉电子科技有限公司蔡汉平获国家专利权
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龙图腾网获悉政汉电子科技有限公司申请的专利湿制程设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223786442U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-09发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422986264.0，技术领域涉及：H10P50/64；该实用新型湿制程设备是由蔡汉平;苏培文设计研发完成，并于2024-12-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本湿制程设备在说明书摘要公布了：本实用新型公开一种湿制程设备，包括第一槽体、晶舟及喷流装置。第一槽体包括相对设置的二槽壁及槽底板。晶舟可活动地设置于第一槽体内并包括多个插槽，且多个插槽沿任一该二槽壁的一宽度方向彼此间隔设置。喷流装置包括至少一上喷流管及至少一下喷流管，上喷流管沿至少一该槽壁的宽度方向设置，并包括多个上喷流孔。下喷流管位于晶舟的下方并包括多个下喷流孔。多个上喷流孔及多个下喷流孔相对该晶舟以不同方向朝多个插槽喷出处理液，从而有效地将蚀刻残留物清除，提高蚀刻速率。
本实用新型湿制程设备在权利要求书中公布了：1.一种湿制程设备，其特征在于，包括： 第一槽体，包括相对设置的二槽壁及一槽底板，该槽底板连接于该二槽壁之底部之间； 晶舟，可活动地设置于该第一槽体内并包括多个插槽，且该多个插槽沿任一该二槽壁的一宽度方向彼此间隔设置，并用以收纳载板；及 喷流装置，包括至少一上喷流管及至少一下喷流管，该上喷流管沿至少一该槽壁的该宽度方向设置，并包括多个上喷流孔，该下喷流管设置在该上喷流管及该槽底板之间，且位于该晶舟的下方，并且该下喷流管包括多个下喷流孔，该多个上喷流孔及该多个下喷流孔相对于该晶舟以不同方向朝该多个插槽喷出一处理液。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
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