奥谱天成(厦门)光电有限公司刘鸿飞获国家专利权
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龙图腾网获悉奥谱天成(厦门)光电有限公司申请的专利基于双平面反射光栅的光谱仪获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223783738U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-09发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520511544.8,技术领域涉及:G01J3/28;该实用新型基于双平面反射光栅的光谱仪是由刘鸿飞;贺文丰;蔡梦福设计研发完成,并于2025-03-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于双平面反射光栅的光谱仪在说明书摘要公布了:本申请公开了一种基于双平面反射光栅的光谱仪,属于光谱仪技术领域。通过在光谱仪中设置相邻分布的第一平面反射光栅和第二平面反射光栅,光线经过两个平面反射光栅的二次分光,在保证了光谱仪分辨率的基础上,无需采用较大焦距的聚焦透镜,有效的减小了光谱仪的整体体积,节约了制造成本,便于光谱仪的小型化设计。另外,使用双反射光栅增加了衍射角度,解决了近红外光对于反射光栅高刻线密度衍射角度小的问题,提高了近红外光的衍射效率。
本实用新型基于双平面反射光栅的光谱仪在权利要求书中公布了:1.一种基于双平面反射光栅的光谱仪,其特征在于,包括:入射狭缝、准直透镜、第一平面反射光栅、第二平面反射光栅、聚焦透镜和探测器组件; 所述入射狭缝用于发出光束; 所述准直透镜位于所述入射狭缝的出光侧,用于将光束准直后导向所述第一平面反射光栅; 所述第一平面反射光栅用于光束分光,且将分光后的光束导向所述第二平面反射光栅,所述第二平面反射光栅对光束二次分光; 所述聚焦透镜用于将二次分光后的光束聚焦后导向所述探测器组件的感光面。
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