中微半导体设备(上海)股份有限公司杨闰清获国家专利权
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龙图腾网获悉中微半导体设备(上海)股份有限公司申请的专利缓冲装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223780359U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-09发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520107111.6，技术领域涉及：C23C16/455；该实用新型缓冲装置是由杨闰清;徐灿阳;陈冬;许灿;何伟业设计研发完成，并于2025-01-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本缓冲装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种缓冲装置，设置在工艺腔和传输腔之间，包括缓冲腔，经由所述缓冲腔在所述工艺腔和传输腔之间传输晶圆，所述缓冲装置包括：气体供应装置，用于向所述缓冲腔内提供吹扫气体；抽气装置，用于抽出所述缓冲腔内的所述吹扫气体；控制器，分别与所述气体供应装置以及所述抽气装置连接，所述控制器控制所述气体供应装置和所述抽气装置交替工作，以在第一预设时间内将所述缓冲腔内的气压从第一气压升高到第二气压，并在第二预设时间内将所述缓冲腔内的气压从第二气压降低到第一气压；该缓冲装置能够防止从工艺腔内传出的晶圆携带颗粒物进入传输腔，提高了晶圆的加工良率，减少了传输腔的清洗频率，提高了工艺平台的稳定性。
本实用新型缓冲装置在权利要求书中公布了：1.一种缓冲装置，设置在工艺腔和传输腔之间，其特征在于，包括缓冲腔，经由所述缓冲腔在所述工艺腔和传输腔之间传输晶圆，所述缓冲装置包括： 气体供应装置，用于向所述缓冲腔内提供吹扫气体； 抽气装置，用于抽出所述缓冲腔内的所述吹扫气体； 控制器，分别与所述气体供应装置以及所述抽气装置连接，所述控制器控制所述气体供应装置和所述抽气装置交替工作，以在第一预设时间内将所述缓冲腔内的气压从第一气压升高到第二气压，并在第二预设时间内将所述缓冲腔内的气压从第二气压降低到第一气压。
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